[发明专利]用于HIV附着抑制剂药物前体化合物和赋形剂的共处理方法和制剂

权利要求书

1.HIV附着抑制剂哌嗪三盐药物前体化合物制剂的生产方法，包括：

a)把所述药物前体化合物溶于溶剂以形成溶液；

b)向所述溶液中加入第一数量的第一反溶剂；

c)把第一数量的HPMC分散在所述溶液中；

d)向所述溶液中加入第二数量的所述第一反溶剂；

e)把第二数量的HPMC分散在所述溶液中；和

f)向所述溶液中加入第二反溶剂，以使所述化合物与所述HPMC结晶，并以此形成所述制剂，其中所述第二反溶剂是基本上由丙酮和乙酸异丙酯(IPAC)组成的组合。

2.权利要求1的方法，还包括过滤、洗涤和干燥所述结晶化合物的步骤。

3.权利要求1的方法，其中所述溶剂是水。

4.权利要求3的方法，其中所述第一反溶剂是丙酮。

5.权利要求1的方法，其中所述第一数量的HPMC约为总量的40至60％。

6.权利要求4的方法，其中所述第二反溶剂是以大约20∶80v/v比率的丙酮和IPAC的组合。

7.权利要求6的方法，其中所述第二反溶剂基本上不含其它化合物。

8.权利要求7的方法，其中所述其它化合物包括乙酸乙酯和乙酸正丁酯。

9.权利要求2的方法，其中所述过滤和洗涤用丙酮完成。

10.权利要求9的方法，其中所述干燥在搅动下完成。

11.权利要求10的方法，其中所述结晶化合物具有改善的粉末流动性和致密性。

12.权利要求11的方法，其中所述结晶化合物呈球形附聚物的形式。

13.权利要求12的方法，其中所述化合物基本上在所述HPMC内结晶。

14.权利要求1的方法，其中在步骤a)中所述化合物基本上是晶体，并且其特征是高度可带电的易碎针状物，具有高的长宽比和差的流动特性。

15.权利要求6的方法，其中在步骤f)中所述第二反溶剂在约1至5小时的过程中加入。

16.权利要求1的方法，其中步骤f)之后所述化合物与所述HPMC的比率约为3∶1。

17.按照权利要求1的方法获得的制剂。

18.HIV附着抑制剂哌嗪三盐药物前体化合物制剂的生产方法，包括：

a)向第一容器中加入第一反溶剂；

b)把HPMC分散在所述第一容器中；

c)把所述药物前体化合物溶于溶剂以形成溶液，并向所述第一容器中加入所述溶液；

d)向所述第一容器的所述溶液中加入第二反溶剂，以使所述化合物与所述HPMC结晶，并以此形成所述制剂，其中所述第二反溶剂是基本上由丙酮和乙酸异丙酯(IPAC)组成的组合。

19.权利要求18的方法，其中所述第一反溶剂是丙酮。

20.权利要求18的方法，其中所述溶剂是水。