[发明专利]用于显示装置的倾斜小面有效

专利信息
申请号: 201280064074.0 申请日: 2012-12-14
公开(公告)号: CN104040407A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 罗伯特·L·霍尔曼;克里斯托弗尔·A·莱弗里;汤民豪 申请(专利权)人: 高通MEMS科技公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;G06F3/044
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 孙宝成
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 显示装置 倾斜
【权利要求书】:

1.一种设备,其包括:

柔性衬底,其具有形成于所述衬底的第一表面中的多个凹痕;及

反射小面,其至少部分地位于所述凹痕内,其中所述反射小面包含:

反射表面,其位于所述小面的面向所述凹痕的侧上;及

小面掩蔽结构,其在所述反射小面的与所述衬底相对的侧上,其中所述小面掩蔽结构的反射性小于所述反射表面。

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述衬底的所述第一表面包含位于所述衬底中的所述凹痕之间的平坦区域,且其中所述反射小面包含经定向而与所述衬底的所述平坦区域成角度的倾斜侧壁。

3.根据权利要求2所述的设备,其中所述反射小面具有高度为至少约0.5μm的截头圆锥形形状。

4.根据权利要求2或3所述的设备,其中所述倾斜侧壁相对于所述衬底的所述平坦区域定向的所述角度在约40°与约50°之间。

5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的设备,其中所述反射表面包含铝。

6.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的设备,其中所述反射表面包含金属油墨。

7.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的设备,其中所述小面掩蔽结构包含光致抗蚀剂层。

8.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的设备,其中所述小面掩蔽结构包含干涉式黑色掩模。

9.根据权利要求1到8中任一权利要求所述的设备,其另外包括:

多个经掩蔽导线,其位于所述柔性衬底上,其中所述多个经掩蔽导线中的每一者包含:

导电材料条带;及

导线掩蔽结构,其具有至少一个导线掩蔽层,其中所述导线掩蔽层的反射性小于所述导电材料条带。

10.根据权利要求9所述的设备,其中所述导电材料条带位于所述导线掩蔽结构与所述衬底之间。

11.根据权利要求9或10所述的设备,其中所述多个经掩蔽导线彼此大体平行地延伸。

12.根据权利要求9到11中任一权利要求所述的设备,其中所述衬底的所述第一表面包含位于所述衬底中的所述凹痕之间的平坦区域,且其中所述多个经掩蔽导线在所述衬底的所述第一表面的所述平坦区域上方延伸。

13.根据权利要求9到12中任一权利要求所述的设备,其中所述导线掩蔽结构包含光致抗蚀剂层。

14.根据权利要求9到12中任一权利要求所述的设备,其中所述导线掩蔽结构包含干涉式暗掩模。

15.根据权利要求9到14中任一权利要求所述的设备,其中所述多个经掩蔽导线的宽度小于约5μm。

16.根据权利要求1到8中任一权利要求所述的设备,其另外包括:

显示器衬底,其中所述柔性衬底位于所述显示器衬底与所述反射小面之间,且其中所述反射小面的所述反射表面面向所述显示器衬底;及

反射式显示器,其位于所述显示器衬底的与所述柔性衬底相对的侧上。

17.根据权利要求16所述的设备,其中所述柔性衬底另外包含形成于所述衬底上的多个经掩蔽导线。

18.根据权利要求17所述的设备,其另外包括位于第一柔性衬底的与所述显示器衬底相对的侧上的第二柔性衬底,其中所述第二柔性衬底包含形成于所述第二柔性衬底上的第二多个经掩蔽导线,且其中第一多个经掩蔽导线实质上正交于第二多个经掩蔽导线而延伸。

19.根据权利要求16到18中任一权利要求所述的设备,其另外包括:

处理器,其经配置以与所述显示器通信,所述处理器经配置以处理图像数据;及

存储器装置,其经配置以与所述处理器通信。

20.根据权利要求19所述的设备,其进一步包括经配置以将至少一个信号发送到所述显示器的驱动器电路。

21.根据权利要求20所述的设备,其进一步包括经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路的控制器。

22.根据权利要求19到21中任一权利要求所述的设备,其进一步包括经配置以将所述图像数据发送到所述处理器的图像源模块。

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