[发明专利]用于运行真空抓取装置的方法、真空控制装置和操纵器有效
申请号: | 201280066673.6 | 申请日: | 2012-11-08 |
公开(公告)号: | CN104204542A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | D.瓦格纳 | 申请(专利权)人: | 费斯托股份有限两合公司 |
主分类号: | F04F5/52 | 分类号: | F04F5/52;B25J15/06;B26D7/01;B65G47/91 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 梁冰;谭祐祥 |
地址: | 德国埃*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 运行 真空 抓取 装置 方法 控制 操纵 | ||
1. 用于运行真空抓取装置(1)的方法,所述真空抓取装置包括一真空抓取器(40)、一处理装置(32)、一用于提供一基于流体和/或基于真空的传感器信号的传感器装置(33)以及一能由所述处理装置(32)操控的流体控制阀(24;45、46),所述流体控制阀用于提供真空到所述真空抓取器(4)上,其中,所述处理装置(32)构造用于处理所述传感器信号并且用于操控所述流体控制阀(24;45、46),所述方法具有如下步骤:在一操控时间点(t1;t6)由所述处理装置(32)输出一控制信号到所述流体控制阀(24;45、46)上;获知一针对由所述传感器装置(33)与一基于流体和/或基于真空的物理值相关联地输出的传感器信号的变化速度;并且提供一状态信号到一外部的通讯系统(15)上,所述外部的通讯系统构造用于与一机器控制装置(13)通讯,用以当所获知的变化速度相应于一能预设的最小值或处于一能预设的值区间中时,通过所述状态信号引起所述真空抓取器(4)的运动状态的变化。
2. 按照权利要求1所述的方法,其特征在于,在一时间点由所述处理装置(32)获知一空转压力值,在该时间点所述真空抓取器(4)不贴靠在一工件(2)上。
3. 按照权利要求1或2所述的方法,其特征在于,由所述处理装置(32)在一真空抓取过程期间获知一最小压力值,当所述真空抓取器(4)贴靠在所述工件(2)上时,调节出所述最小压力值。
4. 按照权利要求2或3所述的方法,其特征在于,针对所述传感器信号的变化速度的最小值或值区间根据所述空转压力值和/或根据所述最小压力值进行匹配。
5. 按照权利要求2、3或4所述的方法,其特征在于,当所述空转压力值位于一能预设的空转压力极值之上和/或所述最小压力值位于一能预设的最小压力极值之上时,由所述处理装置(32)输出一报警。
6. 按照前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,只有当针对所述传感器信号的变化速度长于一能预设的最小时间区间与所述能预设的最小值或所述能预设的值区间一致,和/或当在从由所述处理装置(32)在所述操控时间点(t1;t6)输出所述控制信号到所述流体控制阀(24;45、46)上时开始的一能预设的时间区间内,达到了一针对所述传感器信号的最小值时,才由所述处理装置(32)提供所述状态信号。
7. 真空控制装置,具有一用于流体供应的流体接口(18、19;23;43、44);具有一用于提供流体和/或真空到一消耗器上的流体出口(31);具有一处理装置(32),其构造用于处理至少一个基于流体和/或基于真空的传感器信号并且用于提供所述控制信号;以及具有一能由所述控制信号操控的流体控制阀(24;45、46),所述流体控制阀与所述流体接口(18、19;23;43、44)或与所述流体接口(18、19;23;43、44)和所述流体出口(31)连接;和/或具有一真空控制阀(46),其与所述流体接口(44)和所述流体出口(31)连接,用以实现在所述流体出口(31)上短时间地提供流体和/或真空,其特征在于,所述处理装置(32)以如下方式构造用于获知一针对由所述传感器装置(14;33)与一基于流体和/或基于真空的物理值相关联地输出的传感器信号的变化速度,以及用于提供一状态信号到一外部的通讯系统(15)上,所述外部的通讯系统用作与一机器控制装置(13)通讯,在所获知的变化速度与一能预设的最小值或一能预设的值区间一致的情况下,借助于所述状态信号能预设所述真空抓取器(4)的运动状态的变化。
8. 按照权利要求7所述的真空控制装置,其特征在于,所述真空抓取器(4)配设有一尤其构造成压力传感器的传感器装置(14),其构造用于提供所述基于真空的传感器信号到所述处理装置(32)上。
9. 按照权利要求7或8所述的真空控制装置,其特征在于,所述处理装置(32)配设有一用于获知所述流体接口(31)上的流体压力的压力传感器(33),并且所述处理装置(32)构造用于借助于所获知的流体压力来改变到所述流体控制阀(24;45)和/或所述真空控制阀(46)上的控制信号。
10. 按照权利要求7、8或9所述的真空控制装置,其特征在于,在所述流体接口(23)和所述流体出口(31)之间流体地打磨一真空产生器(25)、尤其一喷射器。
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