[发明专利]铜箔复合体、以及成形体及其制造方法有效
申请号: | 201280066809.3 | 申请日: | 2012-01-13 |
公开(公告)号: | CN104080605A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 田中幸一郎;冠和树 | 申请(专利权)人: | JX日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | B32B15/08 | 分类号: | B32B15/08;H05K1/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 熊玉兰;孟慧岚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜箔 复合体 以及 成形 及其 制造 方法 | ||
1.铜箔复合体,其是铜箔与树脂层层叠而成的铜箔复合体,其特征在于,
在将所述铜箔的厚度设为t2(mm),将拉伸应变4%时的所述铜箔的应力设为f2(MPa),将所述树脂层的厚度设为t3(mm),将拉伸应变4%时的所述树脂层的应力设为f3(MPa)时,满足式1:(f3×t3)/(f2×t2)≥1;
并且在将所述铜箔与所述树脂层的180°剥离粘接强度设为f1(N/mm),将所述铜箔复合体的拉伸应变30%时的强度设为F(MPa),将所述铜箔复合体的厚度设为T(mm)时,满足式2:1≤33f1/(F×T);且
在所述铜箔中的未层叠有所述树脂层的面,形成有附着量5~100 μg/dm2的Cr氧化物层。
2.如权利要求1所述的铜箔复合体,其特征在于,在所述Cr氧化物层与所述铜箔之间,形成有厚度0.001~5.0 μm的Ni层或Ni合金层。
3.如权利要求2所述的铜箔复合体,其特征在于,所述Ni层或Ni合金层的厚度为0.001~0.10 μm。
4.如权利要求1~3中任一项的铜箔复合体,其特征在于,在低于所述树脂层的玻璃化转变温度的温度下,所述式1及式2成立。
5.如权利要求1~4中任一项的铜箔复合体,其特征在于,所述铜箔复合体的拉伸断裂应变I与所述树脂层单体的拉伸断裂应变L之比I/L为0.7~1。
6.成形体,其是权利要求1~5中任一项所述的铜箔复合体进行加工而成。
7.成形体的制造方法,其对权利要求1~5中任一项所述的铜箔复合体进行加工。
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