[发明专利]输送设备

权利要求书

1.一种用于输送基底的基底输送设备，所述基底输送设备包括：

框架；

至少一个传递臂，其连接到所述框架；

至少一个末端执行器，其安装到所述至少一个传递臂；和

至少一个基底支承垫，其设置在所述至少一个末端执行器上，所述至少一个基底支承垫具有下列构造，所述构造实现方向可变的摩擦系数，以提供由沿至少一个预定方向的、大于沿另一个预定方向的摩擦系数的增大的摩擦系数所引起的增大的摩擦力。

2.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，所述至少一个基底支承垫构造成在所述基底的平面中施加定向摩擦力，而基本不沿大致垂直于所述基底的平面的方向将力提供在所述基底上。

3.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，所述至少一个基底支承垫与所述至少一个末端执行器中的相应一个形成整体式结构。

4.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，所述摩擦力为定向摩擦力，其中所述至少一个基底支承垫中的各个的来自增大的摩擦系数的所述增大的摩擦力作用的方向取决于沿所述基底的平面的所述基底的加速度矢量。

5.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，所述至少一个基底支承垫中的各个包括至少一个定向摩擦垫，其中各个定向摩擦垫包括表面特征，所述表面特征构造成沿至少一个预定方向施加由增大的摩擦系数引起的所述增大的摩擦力。

6.根据权利要求5所述的基底输送设备，其特征在于，各个定向摩擦垫的至少一个预定方向在公共点处会聚。

7.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，各个基底支承垫的至少一个预定方向在所述至少一个末端执行器中的相应一个的公共点上会聚。

8.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，所述至少一个基底支承垫中的各个包括提供所述摩擦力的微观和纳米观结构中的一个或更多个。

9.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，所述至少一个基底支承垫能够控制，以便所述至少一个基底支承垫的定向从一个方向变化至另一个方向。

10.根据权利要求1所述的基底输送设备，其特征在于，所述至少一个基底支承垫构造成支承热的晶片。

11.一种基底保持装置，包括：

驱动区段；和

基底支承件，其连接到所述驱动区段，所述基底支承件包括至少一个基底支承垫，所述至少一个基底支承垫具有下列构造，所述构造实现方向可变的摩擦系数，以提供由沿至少一个预定方向的、大于沿另一个预定方向的摩擦系数的增大的摩擦系数所引起的增大的摩擦力。

12.根据权利要求11所述的基底保持装置，其特征在于，所述驱动区段构造成使所述基底支承件围绕旋转轴线旋转。

13.根据权利要求12所述的基底保持装置，其特征在于，所述至少一个基底支承垫中的各个的至少一个预定方向相对于所述基底支承件的旋转相切地定向。

14.根据权利要求12所述的基底保持装置，其特征在于，所述基底保持装置包括至少一个臂连杆，所述至少一个臂连杆可旋转地联接到所述驱动区段，并且所述至少一个基底支承件可旋转地联接到所述至少一个臂连杆。

15.根据权利要求11所述的基底保持装置，其特征在于，所述至少一个基底支承垫构造成在所述基底的平面中施加定向摩擦力，而基本不沿大致垂直于所述基底的平面的方向将力提供在所述基底上。

16.根据权利要求11所述的基底保持装置，其特征在于，所述至少一个基底支承垫与所述至少一个基底支承件中的相应一个形成整体式结构。

17.根据权利要求11所述的基底保持装置，其特征在于，所述至少一个基底支承垫中的各个包括至少一个定向摩擦垫，其中各个定向摩擦垫包括表面特征，所述表面特征构造成沿至少一个预定方向施加由增大的摩擦系数引起的所述增大的摩擦力。

18.根据权利要求17所述的基底保持装置，其特征在于，各个定向摩擦垫的至少一个预定方向在公共点处会聚。

19.根据权利要求11所述的基底保持装置，其特征在于，各个基底支承垫的至少一个预定方向在所述至少一个基底支承件中的相应一个的公共点上会聚。

20.根据权利要求11所述的基底保持装置，其特征在于，所述至少一个基底支承垫中的各个包括提供所述摩擦力的微观和纳米观结构中的一个或更多个。