[发明专利]烧结磁铁及其制造方法在审
| 申请号： | 201280073551.X | 申请日： | 2012-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN104350554A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 小室又洋;佐通祐一;今川尊雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | H01F1/08 | 分类号： | H01F1/08;H01F1/057;H01F41/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王永红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 烧结 磁铁 及其 制造 方法 | ||
1.烧结磁铁，由NdFeB的主相和晶界相构成，其特征在于，
所述晶界相中具有氧氟化物，
所述氧氟化物所含有的氟浓度比所述氧氟化物所含有的氧浓度高，
所述氧氟化物所含有的氟浓度从所述烧结磁铁表面向深度方向减少，
所述烧结磁铁的饱和磁通密度从所述烧结磁铁表面向深度方向减少。
2.如权利要求1所述的烧结磁铁，其特征在于，
所述氧氟化物的体积率从所述烧结磁铁表面向深度方向减少。
3.如权利要求1或2所述的烧结磁铁，其特征在于，
所述氧氟化物所含有的氟的浓度以从所述烧结磁铁的表面向深度方向100μm的范围的区域中的平均值计超过33原子％。
4.如权利要求1～3中任一项所述的烧结磁铁，其特征在于，
所述氧氟化物包含立方晶或正方晶的晶体结构。
5.如权利要求1～4中任一项所述的烧结磁铁，其特征在于，
所述烧结磁铁整体的氟含量为5原子％以下。
6.如权利要求1～5中任一项所述的烧结磁铁，其特征在于，
所述烧结磁铁整体的氧浓度为3000ppm以下。
7.如权利要求1～6中任一项所述的烧结磁铁，其特征在于，
所述主相所含有的铁或铁合金为bcc或bct结构，
所述铁或铁合金从所述烧结磁铁表面向深度方向减少。
8.如权利要求1～7中任一项所述的烧结磁铁，其特征在于，
所述氧氟化物包含正方晶的晶体结构的NdOxF3-2x(0＜x＜1)。
9.烧结磁铁的制造方法，其特征在于，
在制造权利要求1～8中任一项所述的烧结磁铁的工序中，
通过使用解离性氟化剂而导入氟。
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