[发明专利]一种太阳光谱选择性吸收膜及其生产方法

权利要求书

1.一种太阳光谱选择性吸收膜，包括一个覆膜基体（1），在覆膜基体（1）表面从内到外依次覆盖红外反射层（2）、中间介质层（3）、半透明金属层（4）、表面介质层（5），其特征在于：所述的覆膜基体（1）为金属或合金，所述的红外反射层（2）是包含铝或铜的涂层，所述的中间介质层（3）和表面介质层（5）为含氮化硅或氮氧化硅的涂层，所述的半透明金属层（4）为含铬的涂层。 

2.根据权利要求1所述的一种太阳光谱选择性吸收膜，其特征在于：红外反射层（2）厚度为10~150nm，中间介质层（3）和表面介质层（5）厚度为30~100nm，半透明金属层（4）厚度为1~50nm。 

3.根据权利要求1所述的一种太阳光谱选择性吸收膜，其特征在于：在表面介质层（5）外增加一个或两个“半透明金属层/介质层”交替层（6）。 

4.根据权利要求3所述的一种太阳光谱选择性吸收膜，其特征在于：“半透明金属层/介质层”交替层（6）的半透明金属层为含铬的涂层，介质层为含氮化硅或氮氧化硅的涂层。 

5.根据权利要求3所述的一种太阳光谱选择性吸收膜，其特征在于：“半透明金属层/介质层”交替层（6）的半透明金属层的厚度为1~30nm，介质层厚度为30~100nm。 

6.根据权利要求1所述的选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于，依次按以下步骤进行： 

a.将覆膜基体进行表面处理，除去表面油污和氧化皮； 

b.将表面处理好的基体烘干； 

c.将烘干的基体置于真空镀膜室内； 

d.真空室内，根据太阳能集热器板芯的结构，在基体上依次制备红外反射层、介质层、半透明金属层、介质层，或者再增加一个或两个“半透明金属层、介质层”交替层（5）。 

7.根据权利要求6所述的红外反射层的制备，其特征在于：真空度为0.05~2Pa，溅射气体为Ar，溅射靶材为双阴极Al或Cu靶，溅射电流为2~30A，阴极电压为200~800V。 

8.根据权利要求6所述的介质层的制备，其特征在于：真空度为0.05~2Pa， 溅射气体为Ar，反应气体为N₂或N₂掺O₂，Ar占所有气体比重的30~50%，N₂占40~60%，O₂占1~15%，气体溅射靶材为中频电源控制的双阴极Si靶，溅射电流为30~75A，溅射电压为450~1000V。 

9.根据权利要求6所述的半透明金属层的制备，其特征在于真空度为0.05~2Pa，溅射气体为Ar，溅射靶材为双阴极Cr靶，溅射电流为2~30A，阴极电压为300~1000V。