[发明专利]轧制铜箔无效
申请号: | 201310006449.4 | 申请日: | 2013-01-08 |
公开(公告)号: | CN103255312A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 室贺岳海;关聪至 | 申请(专利权)人: | 日立电线株式会社 |
主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22F1/08;H05K1/09;B21B1/40 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;於毓桢 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 轧制 铜箔 | ||
1.一种轧制铜箔,其特征在于,其为具备主表面,且具有与所述主表面平行的多个晶面的最终冷轧工序后、再结晶退火工序前的轧制铜箔,
所述多个晶面包含{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面,
将对所述主表面由使用2θ/θ法的X射线衍射测定所求出、以合计值为100的方式所换算的所述各晶面的衍射峰强度比分别设为I{022}、I{002}、I{113}、I{111}和I{133}时,
I{113}≤6.0、
I{111}≤6.0、且
I{133}≤6.0。
2.如权利要求1所述的轧制铜箔,其特征在于,将由关于具有{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面的粉末铜的JCPDS卡或ICDD卡中记载的所述各晶面的标准衍射峰的相对强度所求出、以合计值为100的方式所换算的所述各晶面的衍射峰强度比分别设为I0{022}、I0{002}、I0{113}、I0{111}和I0{133}时,
I{113}/I0{113}≤0.70、
I{111}/I0{111}≤0.12、且
I{133}/I0{133}≤1.3。
3.如权利要求1或2所述的轧制铜箔,其特征在于,I{002}≥7.5。
4.如权利要求1~3中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,将由关于具有{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面的粉末铜的JCPDS卡或ICDD卡中记载的所述各晶面的标准衍射峰的相对强度所求出、以合计值为100的方式所换算的所述各晶面的衍射峰强度比分别设为I0{022}、I0{002}、I0{113}、I0{111}和I0{133}时,
I{002}/I0{002}≥0.30。
5.如权利要求1~4中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,以JIS C1020中规定的无氧铜、或JIS C1100中规定的韧铜作为主成分。
6.如权利要求1~5中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,添加了银、硼、钛、锡中的至少任一种。
7.如权利要求1~6中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,通过总加工度为90%以上的所述最终冷轧工序,使厚度成为20μm以下。
8.如权利要求1~7中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,用于柔性印刷配线板。
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