[发明专利]轧制铜箔无效

专利信息
申请号: 201310006449.4 申请日: 2013-01-08
公开(公告)号: CN103255312A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 室贺岳海;关聪至 申请(专利权)人: 日立电线株式会社
主分类号: C22C9/00 分类号: C22C9/00;C22F1/08;H05K1/09;B21B1/40
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;於毓桢
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 轧制 铜箔
【权利要求书】:

1.一种轧制铜箔,其特征在于,其为具备主表面,且具有与所述主表面平行的多个晶面的最终冷轧工序后、再结晶退火工序前的轧制铜箔,

所述多个晶面包含{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面,

将对所述主表面由使用2θ/θ法的X射线衍射测定所求出、以合计值为100的方式所换算的所述各晶面的衍射峰强度比分别设为I{022}、I{002}、I{113}、I{111}和I{133}时,

I{113}≤6.0、

I{111}≤6.0、且

I{133}≤6.0。

2.如权利要求1所述的轧制铜箔,其特征在于,将由关于具有{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面的粉末铜的JCPDS卡或ICDD卡中记载的所述各晶面的标准衍射峰的相对强度所求出、以合计值为100的方式所换算的所述各晶面的衍射峰强度比分别设为I0{022}、I0{002}、I0{113}、I0{111}和I0{133}时,

I{113}/I0{113}≤0.70、

I{111}/I0{111}≤0.12、且

I{133}/I0{133}≤1.3。

3.如权利要求1或2所述的轧制铜箔,其特征在于,I{002}≥7.5。

4.如权利要求1~3中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,将由关于具有{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面的粉末铜的JCPDS卡或ICDD卡中记载的所述各晶面的标准衍射峰的相对强度所求出、以合计值为100的方式所换算的所述各晶面的衍射峰强度比分别设为I0{022}、I0{002}、I0{113}、I0{111}和I0{133}时,

I{002}/I0{002}≥0.30。

5.如权利要求1~4中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,以JIS C1020中规定的无氧铜、或JIS C1100中规定的韧铜作为主成分。

6.如权利要求1~5中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,添加了银、硼、钛、锡中的至少任一种。

7.如权利要求1~6中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,通过总加工度为90%以上的所述最终冷轧工序,使厚度成为20μm以下。

8.如权利要求1~7中任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,用于柔性印刷配线板。

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