[发明专利]彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板有效

专利信息
申请号: 201310007709.X 申请日: 2013-01-09
公开(公告)号: CN103033981A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 伍浚铭 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02B5/20;G03F7/00;G03F7/20
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 片基板 及其 制造 方法 液晶面板
【权利要求书】:

1.一种彩色滤光片基板的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:

提供基体;

在所述基体上涂布第一光阻,并对所述第一光阻进行曝光显影,以形成围设多个间隔区域的黑矩阵层;

在所述基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻,并分别对应进行曝光显影,以在所述间隔区域中形成RGB色阻层,以及在所述黑矩阵层上形成至少一凸柱,其中,所述凸柱由三次所述曝光显影中至少一次形成;

在所述基体上形成公共电极层,所述公共电极层覆盖所述RGB色阻层,且所述凸柱高出所述公共电极层的顶面。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,在所述基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻,并分别对应进行曝光显影,以在所述间隔区域中形成RGB色阻层,以及在所述黑矩阵层上形成至少一凸柱的步骤包括:

在所述基体上涂布第二光阻,并对所述第二光阻进行曝光显影,以在所述基体的所述间隔区域形成第一红色色阻层,以及在所述黑矩阵层上形成至少一第二红色色阻层;

在所述基体上涂布第三光阻,并对所述第三光阻进行曝光显影,以在所述间隔区域形成第一绿色色阻层,以及在所述第二红色色阻层上形成第二绿色色阻层;

在所述基体上涂布第四光阻,并对所述第四光阻进行曝光显影,以在所述间隔区域形成第一蓝色色阻层,以及在所述第二绿色色阻层上形成第二蓝色色阻层,其中依次堆叠的所述第二红色色阻层、所述第二绿色色阻层、所述第二蓝色色阻层形成所述凸柱,所述第一红色色阻层、所述第一绿色色阻层、所述第一蓝色色阻层分别位于不同的所述间隔区域内。

3.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,在所述基体上形成公共电极层,所述公共电极层覆盖所述RGB色阻层,且所述凸柱高出所述公共电极层的顶面设置的步骤包括:

在所述基体上涂布公共电极层;

对所述公共电极层进行图案化制程,以使所述凸柱高出所述公共电极层的顶面,以及使所述黑矩阵层的未设置所述凸柱的顶面暴露。

4.一种彩色滤光片基板,其特征在于,所述彩色滤光片基板包括基体、黑矩阵层、RGB色阻层、公共电极层和至少一凸柱,所述黑矩阵层和所述RGB色阻层形成于所述基体的同一侧表面上,所述凸柱设置于所述黑矩阵层上且所述凸柱由形成所述RGB色阻层的三次曝光显影中的至少一次形成,所述公共电极层覆盖所述RGB色阻层,且所述凸柱高出所述公共电极层的顶面。

5.根据权利要求4所述的彩色滤光片基板,其特征在于,所述RGB色阻层包括第一色阻层、第二色阻层和第三色阻层,所述凸柱由所述第一色阻层、所述第二色阻层和所述第三色阻层中的一个形成或由两个及两个以上依次堆叠形成。

6.根据权利要求5所述的彩色滤光片基板,其特征在于,所述凸柱的纵向截面呈正阶梯型或矩形。

7.根据权利要求6所述的彩色滤光片基板,其特征在于,所述凸柱的最大宽度小于其对应位置处的所述黑矩阵层的宽度。

8.根据权利要求4所述的彩色滤光片基板,其特征在于,所述第一色阻层、所述第二色阻层和所述第三色阻层的材料分别为红色像素树脂、绿色像素树脂和蓝色像素树脂,所述公共电极层的材料为氧化铟锡。

9.一种液晶面板,包括相对设置的彩色滤光片基板和阵列基板,其特征在于,所述彩色滤光片基板包括基体、黑矩阵层、RGB色阻层、公共电极层和至少一凸柱,所述黑矩阵层和所述RGB色阻层形成于所述基体的同一侧表面上,所述凸柱设置于所述黑矩阵层上且所述凸柱由形成所述RGB色阻层的至少一次曝光显影形成,所述公共电极层覆盖所述RGB色阻层,且所述凸柱高出所述公共电极层的顶面。

10.根据权利要求9所述的液晶面板,其特征在于,所述凸柱与所述阵列基板相抵接,所述公共电极层的所述顶面与所述阵列基板间隔设置。

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