[发明专利]彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，具体而言涉及一种彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板。

背景技术

当前，液晶显示装置一般采用VA（Vertical Alignment，垂直调整）型广视角技术的面板，VA包括PVA（Patterned Vertical Alignment，图像垂直调整技术）和MVA（Multi-domain Vertical Alignment，多象限垂直配向技术）两种。两者的差异主要是PVA技术使用透明的氧化铟锡（Indium Tin Oxide，ITO）电极层取代MVA技术中的液晶层凸起物，由于透明ITO电极层可以最大限度减少背光源的浪费，从而不仅可以取代后者使液晶面板具有开口率高、亮度比大等的优点，而且采用PVA技术的液晶面板的综合素质也远远超过采用MVA技术的液晶面板，因此PVA技术已成为VA面板技术中的主流。

现有技术中一般需要利用五道黄光制程来完成彩色滤光片基板的制作，即BM（Black Matrix，黑矩阵）制程、R（Red）制程、G（Green）制程、B（Blue）制程和PS（Photo Spacer，间隙粒子）制程，其中，PS制程中形成间隙粒子的主要作用为支撑两层玻璃基板和控制液晶对盒制程时的沟壑。由于在上述五道黄光制程中均需进行光阻涂布、烘烤、曝光、显影以及清洗再烘干等步骤，因此面板的制程复杂、花费时间很长，且生产成本较高。

综上所述，如何减少液晶面板的黄光制程，实为目前企业需要努力的目标。有鉴于此，本发明提供一种彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板，以解决上述问题。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板，以减少所需黄光制程的数目，简化彩色滤光片基板和液晶面板的制程，降低生产成本。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制造方法，包括：提供基体；在基体上涂布第一光阻，并对第一光阻进行曝光显影，以形成围设多个间隔区域的黑矩阵层；在基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻，并分别对应进行曝光显影，以在间隔区域中形成RGB色阻层，以及在黑矩阵层上形成至少一凸柱，其中，凸柱由三次曝光显影中至少一次形成；在基体上形成公共电极层，公共电极层覆盖RGB色阻层，且凸柱高出公共电极层的顶面。

其中，在基体上依序涂布第二光阻、第三光阻和第四光阻，并分别对应进行曝光显影，以在间隔区域中形成RGB色阻层，以及在黑矩阵层上形成至少一凸柱的步骤包括：在基体上涂布第二光阻，并对第二光阻进行曝光显影，以在基体的间隔区域形成第一红色色阻层，以及在黑矩阵层上形成至少一第二红色色阻层；在基体上涂布第三光阻，并对第三光阻进行曝光显影，以在间隔区域形成第一绿色色阻层，以及在第二红色色阻层上形成第二绿色色阻层；在基体上涂布第四光阻，并对第四光阻进行曝光显影，以在间隔区域形成第一蓝色色阻层，以及在第二绿色色阻层上形成第二蓝色色阻层，其中依次堆叠的第二红色色阻层、第二绿色色阻层、第二蓝色色阻层形成凸柱，第一红色色阻层、第一绿色色阻层、第一蓝色色阻层分别位于不同的间隔区域内。

其中，在基体上形成公共电极层，公共电极层覆盖RGB色阻层，且凸柱高出公共电极层的顶面设置的步骤包括：在基体上涂布公共电极层；对公共电极层进行图案化制程，以使凸柱高出公共电极层的顶面，以及使黑矩阵层的未设置凸柱的顶面暴露。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板，包括基体、黑矩阵层、RGB色阻层、公共电极层和至少一凸柱，黑矩阵层和RGB色阻层形成于基体的同一侧表面上，凸柱设置于黑矩阵层上且凸柱由形成RGB色阻层的三次曝光显影中的至少一次形成，公共电极层覆盖RGB色阻层，且凸柱高出公共电极层的顶面。

其中，RGB色阻层包括第一色阻层、第二色阻层和第三色阻层，凸柱由第一色阻层、第二色阻层和第三色阻层中的一个形成或由两个及两个以上依次堆叠形成。

其中，凸柱的纵向截面呈正阶梯型或矩形。

其中，凸柱的最大宽度小于其对应位置处的黑矩阵层的宽度。

其中，第一色阻层、第二色阻层和第三色阻层的材料分别为红色像素树脂、绿色像素树脂和蓝色像素树脂，公共电极层的材料为氧化铟锡。