[发明专利]一种制备石墨烯薄膜的方法

权利要求书

1.一种制备石墨烯薄膜的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

首先将氧化石墨加入溶剂中，超声分散形成0.1mg/ml到5mg/l的氧化石墨烯分散液，然后将衬底放在加热台上，调节衬底温度，用喷枪将所述氧化石墨烯分散液喷到加热的衬底上，得到氧化石墨烯薄膜，接着对所得氧化石墨烯薄膜进行肼蒸汽还原，即将氧化石墨烯薄膜置于盛有肼的密闭容器中，然后加热到75到110℃，并维持5h到48h，最后对所述肼蒸汽还原所得产物进行碳颗粒修饰。

2.根据权利要求1所述的制备石墨烯薄膜的方法，其特征在于，所述的溶剂是水、乙醇、丙酮、甲醇、乙醚、氯仿、四氯化碳、苯、丙二醇甲醚、丁醇、丁酮、二甲苯、甲苯、四氢呋喃、乙酸甲酯、乙酸乙酯、异丙醇、正庚烷、正己烷中的任意一种。

3.根据权利2所述的制备石墨烯薄膜的方法，其特征在于，所述氧化石墨烯薄膜的制备过程中，衬底的温度根据溶剂种类来确定，溶剂种类与衬底温度的对应关系为：溶剂为水，衬底温度设置在25-95℃；溶剂为乙醇，衬底温度设置在25-70℃；溶剂为丙酮，衬底温度设置在25-50℃；溶剂为甲醇，衬底温度设置在25-60℃；溶剂为乙醚，衬底温度设置在25-30℃；溶剂为氯仿，衬底温度设置在25-56℃；溶剂为四氯化碳，衬底温度设置在25-70℃；溶剂为苯，衬底温度设置在25-75℃；溶剂为丙二醇甲醚，衬底温度设置在25-65℃；溶剂为丁醇，衬底温度设置在25-110℃；溶剂为丁酮，衬底温度设置在25-75℃；溶剂为二甲苯，衬底温度设置在25-130℃；溶剂为甲苯，衬底温度设置在25-105℃；溶剂为四氢呋喃，衬底温度设置在25-60℃；溶剂为乙酸甲酯，衬底温度设置在25-53℃；溶剂为乙酸乙酯，衬底温度设置在25-70℃；溶剂为异丙醇，衬底温度设置在25-75℃；溶剂为正庚烷，衬底温度设置在25-90℃；溶剂为正己烷，衬底温度设置在25-65℃。

4.根据权利要求1、2或3所述的制备石墨烯薄膜的方法，其特征在于，所述的碳颗粒修饰，是将肼蒸汽还原所得产物，完全置于火焰中灼烧2秒到5秒。

5.根据权利要求4所述的制备石墨烯薄膜的方法，其特征在于，所述的碳颗粒修饰中，火焰来源为以下任一物质的燃烧燃烧产生火焰的物质为：蜡烛、酒精、汽油、柴油及各种烷烃类化合物。

6.根据权利要求1、2或3所述的制备石墨烯薄膜的方法，其特征在于，所述的衬底的材质为玻璃、硅片、金属片、聚二甲基硅氧烷。