[发明专利]像素结构、阵列基板及其制造方法

权利要求书

1.一种像素结构，其特征在于：

所述像素结构的公共电极包括第一公共电极和第二公共电极；

所述第一公共电极与栅极扫描线同层但不相连；

所述第二公共电极与数据电极同层但不相连。

2.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第一公共电极包括第一电极条，所述第一电极条与所述栅极扫描线平行。

3.如权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述第一公共电极还包括由所述第一电极条延伸出的第一次电极条，所述第一次电极条与所述第一电极条垂直。

4.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第二公共电极包括第二电极条，所述第二电极条与所述数据电极平行。

5.如权利要求4所述的像素结构，其特征在于，所述第二公共电极还包括由所述第二电极条延伸出的第二次电极条，所述第二次电极条与所述第二电极条垂直。

6.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第一公共电极和第二公共电极在部分或全部交叠处用过孔连接。

7.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板的像素结构采用权利要求1-6任一所述的像素结构。

8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板的每一行的所有像素结构的第一公共电极相连，形成第一公共电极线；所述阵列基板的每一列的所有像素结构的第二公共电极相连，形成第二公共电极线。

9.如权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第一公共电极线和/或第二公共电极线上有一处或多处公共电压信号输入点。

10.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板为a-Si薄膜晶体管阵列基板或氧化物薄膜晶体管阵列基板。

11.一种液晶面板，其特征在于，所述液晶面板的的阵列基板采用权利要求7-10任一所述的阵列基板。

12.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：在基板上形成栅电极层，利用所述栅电极层形成栅电极图案和第一公共电极线；

S2：依次形成栅绝缘层和有源层；

S3：有源层上形成有源层图案，在栅绝缘层上形成第一过孔；

S4：形成源漏电极层，利用所述源漏电极层形成数据电极图案和第二公共电极线，同时第二公共电极线通过所述第一过孔与第一公共电极线相连；

S5：然后依次形成钝化层和像素电极。

13.如权利要求12所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，步骤S3中形成有源层图案的流程与形成所述第一过孔的流程不分先后。

14.如权利要求12所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述步骤S3由步骤S3’替换，所述步骤S3’进一步包括：

S31：有源层上形成有源层图案，

S32：形成刻蚀阻挡层，在所述刻蚀阻挡层上形成第一过孔和第二过孔；

所述步骤S4形成的数据电极图案通过所述第二过孔与有源层图案相连。