[发明专利]一种容积可调的组合式坩埚

权利要求书

1.一种容积可调的组合式坩埚，包括坩埚(8)、附加筒A(1)，其特征是：坩埚(8)上端的坩埚上沿(6)面上设有环绕的环状凹槽(3)；附加筒A(1)的上端面为平面，在附加筒A(1)的下端面上设有环绕的向下延伸凸起环(2)；所述附加筒A(1)下端面上设置的凸起环(2)与坩埚上沿(6)设置的环状凹槽(3)插接，所述凸起环(2)与环状凹槽(3)吻配且附加筒A(1)的下端面与坩埚上沿(6)对接形成容积可调的组合式坩埚。

2.根据权利要求1所述的容积可调的组合式坩埚，其特征是：在坩埚(8)内的腔体(7)上、附加筒A(1)的内部面上分别设有钡涂层。

3.根据权利要求2所述的容积可调的组合式坩埚，其特征是：所述坩埚(8)内腔体(7)上、附加筒A(1)内部面上的钡涂层厚度为1～2mm。

4.根据权利要求1所述的容积可调的组合式坩埚，其特征是：设置在坩埚上沿(6)的所述环状凹槽(3)为“U”形槽或“V”形槽；设置在附加筒A(1)下端面的凸起环(2)为“U”形凸起或“V”形凸起。

5.根据权利要求1所述的容积可调的组合式坩埚，其特征是：在坩埚(8)与附加筒A(1)之间设有附加筒B(5)，所述附加筒B(5)的筒上沿(4)和下端面上分别设有环状凹槽(3)、凸起环(2)。

6.根据权利要求5所述的容积可调的组合式坩埚，其特征是：设置在附加筒B(5)筒上沿(4)的所述环状凹槽(3)为“U”形槽或“V”形槽；设置在附加筒B(5)下端面的凸起环(2)为“U”形凸起或“V”形凸起。

7.根据权利要求5所述的容积可调的组合式坩埚，其特征是：在附加筒B(5)的内部面上设有钡涂层。

8.根据权利要求7所述的容积可调的组合式坩埚，其特征是：附加筒B(5)内部面上设置的钡涂层厚度为1～2mm。