[发明专利]刻蚀烘烤设备升降装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种刻蚀烘烤设备升降装置，更具体地说，涉及一种使用在氯气或氯化物刻蚀烘烤设备中的升降装置。

背景技术

金属有机化学气相沉积设备（简称MOCVD）以热分解反应方式在衬底上进行化学沉积反应，生长各种III-V族、II-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。石墨盘作为衬底的承载平台，在该反应过程中会有多余的化学反应残留物沉积在石墨盘表面上。如果不对这些残留物进行清除的话，会在新的一炉外延片生长过程中影响对应的温度控制和表面颗粒，并最终影响到外延片生长的成品率。

目前市场提供和业内使用的石墨盘清洁装置通常利用长时间高温烘烤的方式来清除沉积在石墨盘表面上的残留物。但是，由于石墨盘需要放置在高温环境中以进行清除作业，因此需要利用升降装置对其进行升降，从而将待清除的石墨盘送入高温反应炉和/或从高温反应炉中运出已清除的石墨盘。

一种现有的升降装置包括具有升降支架和尾气收集器的升降机构，其中尾气收集器支承在升降支架上。在物料上升过程中，升降机构将支承在升降支架上的尾气收集器提升到上限位置以使该尾气收集器通过反应炉底座上的开口而与反应炉连通。在物料下降过程中，升降机构将支承在升降支架上的尾气收集器下降到下限位置。但是，这样的升降机构会导致反应炉密封性不佳的问题。由于升降机构主要起到的是升降作用，其只能将尾气收集器顶靠在反应炉底座上，而无法在提升动作完成之后进一步将尾气收集器严实地密封在反应炉底座上，从而产生反应炉密封性不佳的问题。

因此，目前急需一种使用在氯气或氯化物刻蚀烘烤设备中的升降装置，其同时具有升降和自动密封反应炉的功能。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种使用在氯气或氯化物刻蚀烘烤设备中的升降装置，其同时具有升降和自动密封反应炉的功能，从而克服了先前提到的密封性不佳的问题。

本发明涉及一种刻蚀烘烤设备升降装置，包括升降机构和支承在升降机构上的尾气收集器，尾气收集器随升降机构在上限位置和下限位置之间升降，其中，装置还包括气缸组件，在升降机构将尾气收集器提升到上限位置时，使用气缸组件进一步提升尾气收集器，以形成尾气收集器与刻蚀烘烤设备的反应炉之间的密封。

较佳的是，升降机构可包括升降支架和丝杆，丝杆通过丝杆螺母与其上方的升降支架关联配合，以将丝杆的旋转运动转化为升降机构的升降运动。丝杠可通过皮带与驱动电机相连，以接受来自驱动电机的动力。皮带可具有张紧装置，张紧装置包括：形成在升降机构的滑板上的一对第一凸台和一对旋合调节螺杆的孔；以及形成在升降机构的底座上的一对凹槽和一对第二凸台，调节螺杆通过顶靠第二凸台，致使滑板利用凹槽和第一凸台之间的滑动配合沿凹槽的方向滑动，从而张紧皮带。

在一个较佳实施例中，在升降装置和尾气收集器上可设有使两者连动的连动装置，连动装置包括销轴、形成在尾气收集器上的多个螺孔和形成在升降装置上的多个通孔，螺孔和通孔经由销轴关联配合。销轴可具有固定在螺孔中的固定端和插入通孔的活动端，销轴的活动端与通孔留有活动间隙，且活动端的长度能完全穿透通孔。

在又一个较佳实施例中，气缸组件可包括至少一个气缸、在气缸中伸缩的气轴、联接在气缸轴顶部的气缸横臂以及联接在气缸横臂上的调节螺杆。尾气收集器可设有与气缸组件分布位置相对应的多个凸台，凸台与旋转到其下方的调节螺杆相顶合。

在再一个较佳的实施例中，升降机构还可包括安装在升降机构上下两端的传感器和安装在升降机构上的感应块，当升降机构上升到上限位置或下降到下限位置时，感应块感应传感器的输出信号，驱动升降机构停止运行。

此外，尾气收集器可具有倒置的T形形状，气缸组件可以三角形布置的方式布置。

本发明的刻蚀烘烤设备升降装置在将尾气收集器顶靠在反应炉底座上之后，通过挤压反应炉底座上的O圈而将尾气收集器严实地密封在反应炉底座上，从而克服先前所述的反应炉密封性不佳的问题，获得了有益的技术效果。

附图说明

为了进一步说明本发明的刻蚀烘烤设备升降装置的结构，下面将结合附图和具体实施方式对本发明进行详细说明，其中：

图1为本发明的刻蚀烘烤设备升降装置的立体图；以及

图2为图1中的刻蚀烘烤设备升降装置左侧部分的放大示意图。

具体实施方式

以下将结合附图说明本发明的最佳实施例的结构及运行过程，其中相同的标号表示相同的部件。