[发明专利]噻二唑酰胺衍生物合成方法有效

专利信息
申请号: 201310046734.9 申请日: 2013-02-05
公开(公告)号: CN103113322A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 苏叶华;蔡国平;杨政和;陈邦池 申请(专利权)人: 浙江省诸暨合力化学对外贸易有限公司
主分类号: C07D285/13 分类号: C07D285/13
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 张法高
地址: 311800 浙江省绍兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 噻二唑酰胺 衍生物 合成 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于噻二唑酰胺有机合成领域。更具体地说,本发明涉及噻二唑酰胺衍生物的合成方法。

背景技术

US4708731、US4645525和US4585471报道噻二唑酰胺衍生物具有除草活性。US4645525在1983年公开了N-甲基-2-[(5-(三氟甲基)-1,3,4-噻二唑-2-基)-氧基]-N-乙酰基苯胺的制备方法。该方法是:N-甲基-2-羟基-N-乙酰基苯胺和氧化钙在二甲基亚砜中50℃下反应1小时,往反应液中加入5-溴-2-三氟甲基-1,3,4-噻二唑,反应液50℃下搅拌40小时。混合物倒入水中,沉淀的油状物用二氯甲烷萃取,蒸除溶剂后得到目标产物,产率约90%。此制备方法以溴作为离去基团,但该方法所用原料5-溴-2-三氟甲基-1,3,4-噻二唑制备困难,反应时间长,溶剂二甲基亚砜难回收。

US4708731在1984年公开了一种5-氯代烷基-1,3,4-噻二唑基氧基乙酰胺具有除草活性,此类噻二唑乙酰胺是通过2-氯-1,3,4-噻二唑和羟基-N-乙酰基苯胺在甲苯下反应制备。US4708731公开了制备N-乙基-2-[(5-(三氯甲基)-1,3,4-噻二唑-2-基)-氧基]-N-乙酰基乙胺的合成方案。其方案是:在-10℃下,往2-氯-5-三氯甲基-1,3,4-噻二唑与N-乙基-2-羟基-N-乙酰基乙胺的甲苯溶液中滴加氢氧化钠水溶液,滴加完毕后,在0-5℃下反应12小时。分离出甲苯相,并水洗涤至中性,真空除去溶剂,残余物在石油醚中打浆析出固体,抽滤,干燥后得到目标产物,产率大约42%。此制备方法以氯替代溴作为离去基团,原料成本比5-溴-2-三氟甲基-1,3,4-噻二唑工艺低,但反应时间长,最终反应收率仅有42%。

US4585471在1986年公开了制备2-[(5-(三氟甲基)-1,3,4-噻二唑-2-基)-氧基]乙酰氨基-2-乙基哌啶的方法。该合成方法是:在叔丁醇钠存在下,N-(羟基乙酰基)-2-乙基哌啶和2-氯-5-三氟甲基-1,3,4-噻二唑在叔丁醇中反应3小时,反应温度20-30℃。加入二氯甲烷萃取,稀盐酸酸化,水洗涤,除去溶剂得到目标产物,产率约66%。此制备方法采用价格更高的叔丁醇钠,反应收率虽有所提高,但仍不理想。

US4968342在1990年公开了3’-氯-N-(异丙基)-2-[(5-(三氟甲基)-1,3,4-噻二唑-2-基)-氧基]乙酰苯胺的合成方案。该合成方案是:2-(甲磺酰基)-5-(三氟甲基)-1,3,4-噻二唑和3’-氯-N-异丙基-2-羟基乙酰苯胺溶解在丙酮溶液中,在-20℃下缓慢滴加氢氧化钠水溶液。在-20℃下反应3小时,反应物倒入水中,抽滤得到析出的固体,产率约85%。此制备方法虽然产率较以前工艺有所提高(~85%),但该工艺采用了水溶性溶剂,使原料2-(甲磺酰基)-5-(三氟甲基)-1,3,4-噻二唑容易水解,反应必需在低温下进行,且丙酮难回收。

US5895818和US5792872在1997年公开了4’-氟-N-异丙基-2-[(5-三氟甲基-l,3,4-噻二唑-2-基)-氧基]乙酰苯胺的合成方法,根据该方法,以2-甲磺酰基-5-三氟甲基-1,3,4-噻二唑和4’-氟-N-异丙基-2-羟基乙酰苯胺溶解在甲苯溶液中,在0-5℃下滴加氢氧化钠溶液,滴加完毕后在5-10℃下继续反应2小时。反应混合液用稀盐酸酸化pH至5.0,分离甲苯相,用甲苯萃取水相,合并甲苯相,除去溶剂后得到目标产物,产率大于93%。此制备方法以甲磺酰基作为离去基团,反应条件较温和,产率较高。但甲磺酰基需要从甲硫基氧化得到,其中硫原子从-2价态氧化到+2价态,需要从氧化剂中得到两个氧原子,要用两当量以上的氧化剂,原子经济性较差。同时,原料甲磺酰基噻二唑的制备使用高浓度的双氧水(US5856499)。大生产中使用高浓度双氧水具有相当高的安全隐患。

发明内容

在现有制备噻二唑乙酰胺类化合物技术中存在许多问题,例如原料难以制备、成本高、产率低、反应时间长、原子经济性不佳、高危险试剂的使用等。因此,经济安全便易的合成噻二唑酰胺类化合物的方法亟需开发。

本发明提供了噻二唑酰胺类化合物(I)的合成方法,化合物(I)通式如下

其中

R1、R2、R3、R4是氢、(C1-C6)-的烷基、芳基(C6-C14)或含杂原子芳基(氮,氧、硫),

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