[发明专利]一种个性化创意拐点识别方法及系统

说明书

技术领域

本发明涉及计算机辅助草图设计领域，具体涉及一种个性化创意拐点识别方法及系统。

背景技术

计算机辅助草图设计将计算机辅助设计（Computer Aided Design，CAD）与纸上草图设计各自的优势相结合，利用计算机为草图设计提供更好的支持，从而提高草图设计效率，甚至激发设计师的创新能力。

草图设计过程并不使一个均衡的过程，设计师经过不断探索、酝酿，脑海中会迸发出灵感。灵感产生后，设计师迅速用草图进行表达并在表达过程中不断对草图进行观察调整。

从新灵感迸发到阶段性草图方案的完成，可视为草图设计中的创意单元；创意单元中的第一个草图行为，可视为草图表达过程中的创意拐点。

草图设计过程中，设计师会探索各种可能的设计路线，产生多个设计方案。多条设计路线形成一张基于创意拐点的树形结构的图，即创意拐点图。创意拐点图是对草图设计过程的抽象表达。创意拐点标识了草图过程中的灵感产生阶段；创意拐点图呈现了草图的设计路线。识别出草图过程中的创意拐点，组织创意拐点图，即可了解设计师的思维发展过程，更好地理解草图设计过程。

在计算机辅助草图设计过程中通过计算机对创意拐点进行识别需要解决以下两方面问题：一方面，由于草图创作具有随意性，而且计算机对草图信息理解能力具有较大的局限性，导致利用计算机进行创意拐点识别时，计算量大、准确度低；另一方面，不同的设计师具有不同的思维方式和草图绘制习惯，导致他们在草图设计过程中出现的创意拐点既有共性又有个性，对于创意拐点的识别必须考虑到设计师自身的因素。

发明内容

本发明一种个性化创意拐点识别方法及系统，建立用户适应机制，根据用户的反馈来解决计算机辅助草图设计过程中的创意拐点识别率低的问题，对具有不同设计思维和绘图习惯的用户均能得到较好的识别结果，具有用户界面友好、计算复杂度低、创意拐点识别率高的优点。

一种个性化创意拐点识别方法，包括以下步骤：

（1）建立草图行为规则库和创意拐点规则库；

草图行为规则库包括两种规则：一种是基于笔画时间间隔阈值t₀和笔画距离阈值₀来判定非绘制草图行为的规则；另一种是基于草图行为特征来判定绘制草图行为的规则。所述非绘制草图行为包括移动和停顿，所述绘制草图行为包括绘图、描线加深和注释。创意拐点规则库中存放一组具有不同权重的创意拐点规则。

（2）记录待识别的草图绘制数据，根据草图行为规则库中的草图行为规则识别草图绘制数据中的草图行为，并输出原始草图行为序列；

（3）对原始草图行为序列进行反馈，并依据该反馈调整草图行为规则，更新草图行为规则库，利用更新后的草图行为规则库中的草图行为规则识别得到草图行为序列；

（4）将草图行为序列与创意拐点规则库中的创意拐点规则进行匹配，识别得到原始创意拐点；

（5）对原始创意拐点进行反馈，并依据该反馈调整创意拐点规则，更新创意拐点规则库，利用更新后的创意拐点规则库中的创意拐点规则识别得到创意拐点。

所述步骤（3）中对原始草图行为序列进行反馈，并依据该反馈调整草图行为规则，更新草图行为规则库，具体操作如下：

A、对于非绘制行为的移动和停顿，记录在发生错误或遗漏识别时的笔画时间间隔T_i（移动行为的错误或遗漏识别以及停顿行为的错误或遗漏识别分别对应一个T_i）和笔画距离D_i（移动行为的错误或遗漏识别以及停顿行为的错误或遗漏识别分别对应一个D_i）；对于绘制行为的描线加深和注释，计算被错误识别时对应的草图行为特征向量f_ci，并记录草图行为特征向量f_ci，其中c表示草图行为类别，取值E时表示描线加深，取值T时表示注释。

B、当T_i记录次数累计达到N₀时，调整非绘制行为规则对应的笔画时间间隔阈值t₀。调整方法如下：