[发明专利]用于先进光刻术的透镜加热感知的源掩模优化

权利要求书

1.一种用于改善通过使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上的光刻过程的计算机执行的方法，光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：

计算多个设计变量的多变量价值函数，其中所述多个设计变量是光刻过程的特性，所述设计变量中的至少一些设计变量是照射源和所述设计布局的特性，多变量价值函数的计算考虑使用照射源通过投影光学装置对所述设计布局的所述部分成像而引入的对投影光学装置的光学特性的效应；和

通过调节所述设计变量直到预定终止条件被满足为止来重构所述光刻过程的特性。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述效应包括加热效应。

3.如权利要求1或2所述的方法，还包括：使用所述设计变量中的、是所述设计布局和所述照射源的特性的至少一些设计变量确定所述效应。

4.如权利要求1或2所述的方法，其中，计算多变量价值函数的步骤包括使用作为所述效应的函数的投影光学装置模型。

5.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述重构步骤包括：使用所述设计变量中的、是所述设计布局和/或所述照射源的特性并且被调节的至少一些设计变量重新确定所述效应。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述设计变量包括投影光学装置的可调节的光学特性。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述可调节的光学特性是：

-投影光学装置的至少一部分的折射率或投影光学装置的至少一部分的温度，或

-投影光学装置的泽尔尼克系数，或

-其能够通过配置用于加热投影光学装置的光学元件的加热器而被调节。

8.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述设计布局的所述部分包括下列中的一个或更多个：整个设计布局、片段、设计布局的已知具有一个或更多个临界特征的一部分以及设计布局的其中一个或更多个临界特征已经通过图案选择方法被识别的一部分。

9.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述预定终止条件包括下列中的一个或更多个：价值函数的最小化、价值函数的最大化、达到迭代的预设次数、价值函数的值等于或超过预设阈值、达到预定计算时间以及价值函数的值在可接受误差极限内。

10.如权利要求1或2所述的方法，其中，在规定所述设计变量中的至少一些设计变量的范围的约束条件下执行迭代重构，或者在没有该约束条件的情况下执行迭代重构。

11.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述设计变量中的至少一些设计变量是在表示光刻投影设备的硬件执行中的物理限制的约束条件下，并且其中所述约束条件包括下列中的一个或更多个：调整范围、控制掩模可制造性的规则以及设计变量之间的相互依赖性。

12.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述价值函数是下列光刻量度中的一个或更多个的函数：边缘定位误差、临界尺寸、抗蚀剂轮廓距离、最差缺陷尺寸以及最佳聚焦偏移。

13.如权利要求1或2所述的方法，还包括步骤：使用所述设计变量中的、是照射源和简化的掩模版的特性的至少一些设计变量来确定所述效应。

14.如权利要求13所述的方法，其中，所述简化的掩模版选自由下列构成的组：估计的掩模版透射、物理掩模的测量的平均透射、来自掩模版的片段以及掩模版的多个离散部分。

15.一种计算机程序产品，包括具有记录在其上的指令的计算机可读介质，所述指令在通过计算机执行时执行上述权利要求任一项所述的方法。