[发明专利]成膜装置、以及成膜装置用基板搬运机构无效
申请号: | 201310052768.9 | 申请日: | 2013-02-18 |
公开(公告)号: | CN103255376A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 若林雅;加藤升;图师庵;石泽泰明 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/56 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 张敬强;严星铁 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 以及 用基板 搬运 机构 | ||
技术领域
本发明涉及在处理室内在基板上成膜的成膜装置、以及成膜装置用基板搬运机构,尤其涉及在真空中在基板上成膜的成膜装置、成膜装置用基板搬运机构。
背景技术
以有机EL器件制造装置为例对本发明的成膜装置进行说明。有机EL器件制造装置不仅仅是形成发光材料层(EL层)且以电极夹持的构造,为了在阳极上形成空穴注入层、输送层,在阴极上形成电子注入层、输送层等而形成将各种材料作成薄膜而成的多层构造,或对基板进行清洗,遍及多个制造装置地将作为处理的产品的有机EL器件保持在真空中不变地向后工序转送。并且,例如,多个制造装置是进行多次不同的蒸镀的蒸镀装置。
图1是基板搬运机构的有机EL器件生产线的一个例子、其是表示利用前后长行程供给机构来搬运处理对象的基板的生产线的图。100是有机EL器件生产线,9是统一控制有机EL器件生产线100整体的控制部,3是处理对象的基板,1是处理基板3的处理腔室,2是利用使用了长行程直动轴承机构的长行程搬运机构来搬入以及搬出基板3的转送室。处理腔室1以及转送室2的第一添标的a~d与处理腔室以及后工序相关地附加,处理腔室1以及转送室2的第二添标、以及基板3的第一添标的u与d表示上侧的线路(u)与下侧的线路(d)。基板3从上游向下游(图中从左朝向右)按顺序地在处理腔室1a、1b、1c、1d进行处理,并继续后工序。此外,本说明书中,将从上游朝向下游的方向称为X方向,将与平面上X方向正交的方向称为Y方向。并且,高度方向(Z方向)是与X方向以及Y方向正交的方向。
对于图1的搬入、处理以及搬出有机EL器件制造装置100的基板3的室内而言,全部维持为处理有机EL器件制造装置100所需要的规定的真空度的真空状态,其大概由搬入处理对象的基板3的转送室2au、2ad、处理基板3的三个处理腔室1(1a、1b、1c)、设有在各处理腔室1间搬出以及搬入(转送)基板的直动式长行程搬运机构的转送室2(2bu、2bd、2cu、2cd)、以及设于处理腔室1与下一道工序(密封工序)之间的转送室2du以及2dd构成。在本实施方式中,将基板的蒸镀面设为上面地在水平方向上进行搬运,并在蒸镀时也将基板维持为水平地进行蒸镀。
图1的有机EL器件制造装置100中,在相同的处理腔室中,在第二基板3d的处理过程中,搬出处理结束后的第一基板3u,以及搬入下一个欲进行处理的第一基板3u。并且,相反地,在相同的处理腔室中,在第一基板3u的处理过程中,搬出处理结束后的第二基板3d,以及搬入下一个欲进行处理的第二基板3d。这样,通过交替地进行处理与搬出、搬入,能够缩短生产率。
例如,处理腔室1b中,第二基板3d的处理过程中,转送室2cu从处理腔室1b搬出处理结束后的第一基板3u。并且,转送室2bu向处理腔室1b搬入欲开始进行处理的第一基板3u。
并且,相反地,处理腔室1b中,第一基板3u的处理过程中,转送室2cd从处理腔室1b搬出处理结束后第二基板3d。并且,转送室2bd向处理腔室1b搬入欲开始进行处理的第二基板3d。
图1中,控制部9以未图示的控制线(也包含无线机构)与生产线整体的各装置连接,向各装置发送控制信号,并且,从各装置接收装置的状态信息,而统一控制各装置整体。例如,在使进行基板3的搬入以及搬出的长行程搬运机构(后述)动作的情况下,对使长行程搬运机构的各直动轴承机构滑动移动的驱动系统进行操作控制,并且,进行对应的闸阀的开闭控制。驱动系统例如是滚珠丝杠机构等。
图2是对设于图1的转送室2的中央部、且用于进行基板3的搬出或者搬入的长行程搬运机构进行说明的侧视图。200是基板搬运机构(以下,称作长行程搬运机构),202是固定于转送室2的基底部的固定基体,204是第一基体,206是第二基体,208是载置基板3的平板,203是固定于固定基体202的上部的固定轨道轴,241与242是固定于第一基体204的下部且在固定轨道轴203的轨道(导轨)上沿X轴方向移动的第一滚动体保持部,205是固定于第一基体204的上部的第一轨道轴,261与262是固定于第二基体206的下部且在第一轨道轴205的轨道(导轨)上沿X轴方向移动的第二滚动体保持部,207是固定于第二基体206的上部的第二轨道轴,281与282是固定于平板208的下部且在第二轨道轴207的轨道(导轨)上沿X轴方向移动的第三滚动体保持部。
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