[发明专利]一种复合精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法

权利要求书

1.一种复合精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于经过下列各步骤：

（1）将硼含量为10～30ppmw的块状冶金级硅破碎至粒度为150～200目的粉末，再将精炼剂与冶金级硅粉按1:1～3:1的比例充分均匀，并将混合后的物料压成圆柱片状；

（2）将步骤（1）所得圆柱片状通入流量为10～20L/min的氩气保护，并采用50℃/min升温到1420～1650℃后，保温0.5～4h后，再以20℃/min降温至室温，然后关闭氩气，取出样品；

（3）去除头尾杂质富集部分，即得到去除杂质硼的硅。

2.根据权利要求1所述的复合精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于：所述步骤（1）的精炼剂是质量含量35%～75%的FeCl₂与65%～25%的SiO₂的混合物。

3.根据权利要求1所述的复合精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于：所述步骤（1）压成圆柱片状的压力为15MPa。

4.根据权利要求1所述的复合精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于：所述步骤（3）的去除头尾杂质富集部分是将样品头尾各切去样品长度的1/10。

5.根据权利要求2所述的复合精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于：所述SiO₂和FeCl₂为分析纯无水粉末，其纯度为99.8%以上。