[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于有机电致发光领域，具体涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

有机电致发光器件（OLED）是一种以有机材料为发光材料，能把施加的电能转化为光能的能量转化装置。它具有超轻薄、自发光、响应快、低功耗等突出性能，在显示、照明等领域有着极为广泛的应用前景。

有机电致发光器件的结构为三明治结构，在阴极和导电阳极之间夹有一层或多层有机薄膜。在含多层结构的器件中，两极内侧主要包括发光层、注入层及传输层。有机电致发光器件是载流子注入型发光器件，在阳极和阴极加上工作电压后，空穴从阳极，电子从阴极分别注入到工作器件的有机材料层中，两种载流子在有机发光材料中形成空穴-电子对发光，然后光从电极发出。

在传统的发光器件中，一般都是以氧化铟锡透明导电薄膜（ITO）玻璃基底为出光面，这种结构中，光的出射会先经过ITO导电材料的吸收反射，再进行一次玻璃基底的吸收和反射，最后才能出射到空气中，但是玻璃和ITO界面之间存在折射率差，会使光从ITO到达玻璃时发生全反射，造成出光的损失，从而导致整体出光性能较低。

发明内容

为了解决上述问题，本发明旨在提供一种具有较高出光效率的有机电致发光器件。本发明还提供了一种有机电致发光器件的制备方法。

第一方面，本发明提供了一种有机电致发光器件，包括依次层叠的光取出层、玻璃基底、阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极，所述光取出层包括聚合物层和散射层，所述聚合物层的材质包括聚3,4-二氧乙烯噻吩和聚苯磺酸盐，所述散射层的材质为折射率大于2.0的金属氧化物按照质量分数10~50%掺杂到硅氧化物中形成的混合物。

在清洁的玻璃基底的两面分别设置光取出层和阳极。

优选地，玻璃基底为折射率高于1.8的光学玻璃，所述光学玻璃对可见光的透过率大于90%。

优选地，玻璃基底选用的玻璃牌号为N-LAF36、N-LASF31A、N-LASF41或N-LASF44。

该牌号为德国肖特牌号（SCHOTT），其中，N-LAF36玻璃的国际玻璃码是800424.443，N-LASF31A玻璃的国际玻璃码是883408.551，N-LASF41玻璃的国际玻璃码是835431.485，N-LASF44玻璃的国际玻璃码是804465.444。

在玻璃基底上依次设置聚合物层和散射层作为光取出层。

聚合物层的材质包括聚3,4-二氧乙烯噻吩和聚苯磺酸盐（PEDOT:PSS）。聚3,4-二氧乙烯噻吩和聚苯磺酸盐折射率低，对光有很好的散射作用，并且和玻璃基底有很好的匹配性。

优选地，聚3,4-二氧乙烯噻吩和所述聚苯磺酸盐为普通市售商品。

优选地，聚3,4-二氧乙烯噻吩和所述聚苯磺酸盐的重量比为2:1~6:1。

优选地，聚合物层的厚度为20~80nm。

通过采用折射率大于1.8，对可见光透过率大于90%的光学玻璃作为器件的基板，消除玻璃与阳极之间的全反射，使更多的光入射到基板中；在玻璃基底上先制备聚合物层，聚合物层折射率为1.6左右，可降低玻璃基板与空气之间的折射率差，使光从玻璃到达空气的比率增大。

在聚合物层上设置散射层。散射层的材质为折射率大于2.0的金属氧化物与硅氧化物形成的混合物。其中，折射率大于2.0的金属氧化物为客体，硅氧化物为主体，折射率大于2.0的金属氧化物的质量为硅氧化物质量的10~50%，即两者的质量比为1~5:10。

优选地，折射率大于2.0的金属氧化物对光的透过率大于70%。

优选地，折射率大于2.0的金属氧化物为二氧化铪（HfO₂）、五氧化二铌（Nb₂O₅）或五氧化二钽（Ta₂O₅）。

优选地，硅氧化物为二氧化硅（SiO₂）或一氧化硅（SiO）。

优选地，散射层的厚度为50~500nm。

在聚合物层之上再制备散射层，可以使到达聚合物的光产生散射，使向两侧发射的光可以回到中间，从而提高出光效率，同时，硅氧化物的透射波段宽，在很宽的范围内对光都不吸收，有较强的增透作用，而光散射层掺杂有低折射率材料，也可以进一步缩小聚合物层与空气之间的折射率差，降低全反射几率，使更多的光出射到空气中。

阳极设置在玻璃基底的另一面。