[发明专利]液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法

权利要求书

1.一种液浸构件，是以液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与所述物体之间保持所述液体以形成液浸空间，其特征在于：

在与所述液体接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。

2.如权利要求1所述的液浸构件，其特征在于，所述液浸构件具备设于所述曝光用光的光路周围、吸引对向物体上的液体加以回收的液体回收区域。

3.如权利要求2所述的液浸构件，其特征在于，于所述液体回收区域与所述液体接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。

4.如权利要求2或3所述的液浸构件，其特征在于，所述液体回收区域包含多孔构件的表面。

5.如权利要求4所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件具有贯通孔。

6.如权利要求4或5所述的液浸构件，其中，所述物体上的液体的至少一部分是通过所述多孔构件回收。

7.如权利要求4至6中任一项所述的液浸构件，其特征在于，于所述多孔构件的表面及设于所述多孔构件的多个贯通孔内壁面形成有碳为主成分的非晶碳膜。

8.如权利要求7所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件的表面或所述贯通孔内壁面的至少一部分对所述液体为亲液性。

9.如权利要求7或8所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件的表面或所述贯通孔内壁面的至少一部分对所述液体为拨液性。

10.如权利要求9所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件的表面对所述液体为拨液性；

所述多孔构件的所述贯通孔的内壁面对所述液体为亲液性。

11.如权利要求1至10中任一项所述的液浸构件，其特征在于，形成有所述非晶碳膜的区域的至少一部分对所述液体为亲液性。

12.如权利要求1至11中任一项所述的液浸构件，其特征在于，所述非晶碳膜是四面体非晶碳膜。

13.如权利要求1至12中任一项所述的液浸构件，其特征在于，所述液浸构件包含钛制的构件。

14.一种液浸构件的制造方法，所述液浸构件是以液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与所述物体之间保持所述液体以形成液浸空间，其特征在于：

于所述液浸构件与所述液体接触的区域的至少一部分上，通过化学气相沉积法或物理气相沉积法形成碳为主成分的非晶碳膜。

15.如权利要求14所述的液浸构件的制造方法，其特征在于，所述液浸构件具备设于所述曝光用光的光路周围、吸引对向物体上的液体加以回收的液体回收区域，于所述液体回收区域与所述液体接触的区域的至少一部分通过化学气相沉积法或物理气相沉积法形成碳为主成分的非晶碳膜。

16.如权利要求14或15所述的液浸构件的制造方法，其特征在于，使用过滤阴极真空电弧法作为物理气相沉积法。

17.如权利要求14至16中任一项所述的液浸构件的制造方法，其特征在于，在形成碳为主成分的非晶碳膜后，对所述非晶碳膜的至少一部分照射紫外线，以使被照射区域对所述液体为亲液性。

18.如权利要求15或16所述的液浸构件的制造方法，其特征在于，形成四面体非晶碳膜作为所述非晶碳膜。

19.如权利要求17所述的液浸构件的制造方法，其特征在于，于配置于所述液体回收区域的多孔构件的表面及设于所述多孔构件的多个贯通孔内壁面通过过滤阴极真空电弧法形成四面体非晶碳膜。

20.如权利要求17或18所述的液浸构件的制造方法，其特征在于，在形成四面体非晶碳膜后，对所述四面体非晶碳膜的至少一部分照射紫外线，以使被照射区域对所述液体为亲液性。

21.如权利要求18或19所述的液浸构件的制造方法，其特征在于，在形成四面体非晶碳膜后，对所述多孔构件的表面及所述贯通孔的内壁面照射紫外线，以使被照射区域对所述液体为亲液性；

进一步于所述多孔构件的表面上通过过滤阴极真空电弧法形成四面体非晶碳膜；

使所述多孔构件的表面对所述液体为拨液性，使所述多孔构件的贯通孔的内壁面对所述液体为亲液性。