[发明专利]曝光装置和使用曝光装置的器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，所述曝光装置用从照明系统发射的光照射在原版上形成的图案以由此经由投影光学系统在基板上曝光所述图案的图像，所述曝光装置包括：

遮光板，所述遮光板被布置在与用作照明系统中的投影光学系统的物体面的基板面共轭的面上，在边缘处包括与基板的外周的内侧的圆形边界线重叠的圆弧，所述圆形边界线限定在其上形成基板上的图像的区域，并且所述遮光板屏蔽光以防止光入射到基板上的所述圆形边界线外部的外周区域；

第一驱动单元，所述第一驱动单元关于与照明系统的光轴平行的轴旋转地驱动所述遮光板；

第二驱动单元，所述第二驱动单元在与所述光轴垂直的面内直线地驱动所述遮光板；

检测单元，所述检测单元检测通过所述遮光板遮光的遮光位置；和

控制单元，所述控制单元存储基准时间点处的遮光位置以及在所述基准时间点之后改变所述遮光板时的所述遮光板的改变前后的遮光位置，并基于在改变所述遮光板之后的任意时间点处由所述检测单元检测的遮光位置、所述基准时间点处的遮光位置以及改变所述遮光板前后的遮光位置之间的差值来计算遮光位置的变化量。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述检测单元在从遮光位置的旋转中心向遮光位置侧的直线上设置所述遮光板的改变前后的遮光位置的检测位置。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，当变化量不超过被确定为不可接受的状态的基准值时，所述控制单元通过将变化量反映给第一驱动单元或第二驱动单元的驱动偏移来校正所述改变。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，当变化量超过被确定为不可接受的状态的基准值时，所述控制单元发出警告。

5.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，当变化量不超过被确定为不可接受的状态的基准值时，所述控制单元通过将变化量反映给第一驱动单元或第二驱动单元的驱动偏移来校正所述改变。

6.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，当变化量超过被确定为不可接受的状态的基准值时，所述控制单元发出警告。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，当所述检测单元检测遮光位置时，所述控制单元从光的照射区域去除所述原版。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，当所述检测单元检测遮光位置时，替代所述原版，所述控制单元放置不具有图案的原版。

9.一种用于制造器件的器件制造方法，所述器件制造方法包括：

使用曝光装置来曝光基板；和

显影被曝光的基板，

其中，所述曝光装置是用从照明系统发射的光照射在原版上形成的图案以由此经由投影光学系统在基板上曝光所述图案的图像的曝光装置，并且包括：

遮光板，所述遮光板被布置在与用作照明系统中的投影光学系统的物体面的基板面共轭的面上，在边缘处包括与基板的外周的内侧的圆形边界线重叠的圆弧，所述圆形边界线限定在其上形成基板上的图像的区域，并且所述遮光板屏蔽光以防止光入射到基板上的所述圆形边界线外部的外周区域；

第一驱动单元，所述第一驱动单元关于与照明系统的光轴平行的轴旋转地驱动所述遮光板；

第二驱动单元，所述第二驱动单元在与所述光轴垂直的面内直线地驱动所述遮光板；

检测单元，所述检测单元检测通过所述遮光板遮光的遮光位置；和

控制单元，所述控制单元存储基准时间点处的遮光位置以及在所述基准时间点之后改变所述遮光板时的所述遮光板的改变前后的遮光位置，并基于在改变所述遮光板之后的任意时间点处由所述检测单元检测的遮光位置、所述基准时间点处的遮光位置以及改变所述遮光板前后的遮光位置之间的差值来计算遮光位置的变化量。