[发明专利]一种紫外多参数校准装置有效
申请号: | 201310065833.1 | 申请日: | 2013-03-04 |
公开(公告)号: | CN103175677A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 孙红胜;王加朋;魏建强;张玉国;李世伟;张虎;孙广尉 | 申请(专利权)人: | 北京振兴计量测试研究所 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G01J3/28 |
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地址: | 100074 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外 参数 校准 装置 | ||
技术领域
本发明涉及紫外光参数校准技术领域,具体的讲是一种紫外多参数校准装置。
背景技术
紫外波段按照能否在大气中进行传播,广义上分为真空紫外波段(10nm~200nm)和非真空紫外波段(200nm~400nm)。紫外波段的辐射特性不同于可见光和红外波段,它在空间探测领域具有不可替代的优势,随着探月工程、深空探测计划、以及火星探测等计划的相续发展,受到越来越多的关注。因此对紫外波段的辐射特性的测量十分必要。
紫外光源、紫外探测器和紫外成像器的参数快速准确校准一直是计量校准领域的难题。现阶段,在进行紫外光源光谱辐射度校准、紫外探测器光谱响应度和紫外成像器参数校准过程中,至少使用三套校准装置分别对紫外光源、紫外探测器和紫外成像仪进行参数校准,操作系统复杂,庞大、灵活性较差,从合理利用有限空间、接口灵活、多参数共同测量和可扩展性以及有效利用有限资金的角度思考,急需一套紫外多参数共同校准装置,具有较强的适用性。
发明内容
为了解决现有技术进行紫外光参数校准需要多套设备造成校准试验成本高,并且试验效率低的问题,提供了一种紫外多参数校准装置可以以一台设备进行紫外多参数校准。
本发明实施例提供了一种紫外多参数校准装置,
旋转平台内置于所述真空仓内,单色仪与真空仓相连接,紫外探测器通过单色仪测量真空仓内的紫外光源的辐射,或者紫外光源通过单色仪向真空仓提供紫外光源的辐射;
标准紫外光源,待校准光源,标准紫外探测器,待校准探测器,紫外成像器和紫外成像参数校准系统均置于所述旋转平台之上,所述旋转平台根据控制信号沿着所述旋转平台的圆心旋转,其中,所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于同一光路。
根据本发明实施例所述的一种紫外多参数校准装置的一个进一步的方面,所述旋转平台与标准紫外光源,待校准光源,标准紫外探测器,待校准探测器,紫外成像器和紫外成像参数校准系统的连接接口均具有旋转电机和平移电机,通过所述旋转电机和平移电机调节所述标准紫外光源,待校准光源,标准紫外探测器,待校准探测器,紫外成像器和紫外成像参数校准系统的位置和空间姿态。
根据本发明实施例所述的一种紫外多参数校准装置的再一个进一步的方面,还包括计算机,当进行光源光谱辐射度校准时,所述紫外探测器与所述单色仪相连接,所述旋转平台进行旋转承载着所述标准紫外光源位于光路中,所述标准紫外光源发射出辐射,该标准紫外光源的辐射经过所述单色仪分光后被所述紫外探测器获取,将该标准紫外光源的光谱响应数据发送给计算机;
所述旋转平台进行旋转承载着所述待校准光源位于光路中,所述待校准光源发射出辐射,该待校准光源的辐射经过所述单色仪分光后被所述紫外探测器获取,将该待校准光源的光谱响应数据发送给计算机。
根据本发明实施例所述的一种紫外多参数校准装置的另一个进一步的方面,还包括计算机,当进行紫外探测器光谱响应度校准时,所述紫外光源与所述单色仪相连接,所述旋转平台进行旋转承载着所述标准紫外探测器位于光路中,所述紫外光源发射出的辐射经过单色仪分光后由所述标准紫外探测器接收,所述标准紫外探测器将该紫外光源辐射的光谱响应数据发送给计算机;
所述旋转平台进行旋转承载着所述待校准探测器位于光路中,所述紫外光源发射出的辐射经过单色仪分光后由所述待校准探测器接收,所述待校准探测器将该紫外光源辐射的光谱响应数据发送给计算机。
根据本发明实施例所述的一种紫外多参数校准装置的另一个进一步的方面,还包括计算机,当进行紫外成像参数校准时,所述紫外光源与所述单色仪相连接,所述旋转平台进行旋转承载着所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于光路中,所述紫外光源发射出的辐射经过单色仪分光后转换为一定带宽的紫外光谱辐射,该一定带宽的紫外光谱辐射成为所述紫外成像参数校准系统的紫外光源,所述紫外成像参数校准系统投射出紫外标准图像,所述紫外成像器对所述标准图像进行接收和探测,并将探测数据发送给所述计算机。
根据本发明实施例所述的一种紫外多参数校准装置的另一个进一步的方面,所述计算机用于数据计算和比较操作。
根据本发明实施例所述的一种紫外多参数校准装置的另一个进一步的方面,所述单色仪与所述真空仓采用法兰连接。
根据本发明实施例所述的一种紫外多参数校准装置的另一个进一步的方面,所述真空仓控制在1×10-1pa~1×10-5pa之间,仓体积控制在0.5m3~10m3之间。
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