[发明专利]溶液催化剂涂布反应器表面的方法有效
申请号: | 201310068192.5 | 申请日: | 2008-02-21 |
公开(公告)号: | CN103159872A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | R·O·哈格蒂;K·B·斯特文斯;R·B·莱尔德;林泽榕;M·E·米勒;A·K·阿加皮奥;D·M·格洛夫切维斯基;F·D·胡赛因;G·D·莫尔;T·A·鲍威尔;M·E·塞洛夫;E·F·史密斯;K·W·特拉普 | 申请(专利权)人: | 尤尼威蒂恩技术有限责任公司 |
主分类号: | C08F10/00 | 分类号: | C08F10/00;C08F2/34 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 夏正东 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 溶液 催化剂 反应器 表面 方法 | ||
1.用于处理流化床聚合反应器系统的内表面的方法,所述表面包括至少一个敏感的表面以及至少一个不敏感表面,所述方法包括如下步骤:
(a)在至少一个所述敏感表面上而非至少一个所述不敏感表面上涂布锌涂层;以及
(b)在步骤(a)之后,将该溶液催化剂至少基本均匀地并以液态形式涂布于每一所述敏感表面上和每一所述不敏感表面上。
2.权利要求1的方法,其中该溶液催化剂包含溶解的含铬化合物。
3.权利要求2的方法,其中该含铬化合物是铬茂。
4.权利要求1-3中任一项的方法,其中该溶液催化剂包含溶于甲苯之中的铬茂。
5.权利要求1-4中任一项的方法,其中该反应器系统具有床壁以及步骤(b)包括如下步骤:
在可使多数液滴在接触床壁之前既不蒸发也不升华的条件下,将该溶液催化剂的至少一液滴喷雾引入反应器系统内。
6.权利要求1-5中任一项的方法,其中步骤(b)包括如下步骤:
在使该溶液催化剂的干燥速率充分低以不妨碍该溶液催化剂至少基本均匀润湿每一所述敏感表面和每一所述不敏感表面的条件下,将该溶液催化剂引入该反应器系统。
7.权利要求1-6中任一项的方法,其中该反应器系统具有床壁以及步骤(b)包括如下步骤:
保持该反应器系统内温度足够低以致至少大量该溶液催化剂在润湿床壁之前既不蒸发也不升华。
8.权利要求1-7中任一项的方法,其中该反应器系统具有床壁、分配板、以及气体再循环管道,以及步骤(b)包括如下步骤:在可使至少大量液滴在蒸发或者升华之前直接接触该床壁、分配板以及再循环管道的条件下,将该溶液催化剂的至少一液滴喷雾引入反应器系统。
9.权利要求1-8中任一项的方法,其中该溶液催化剂包含至少一种溶于溶剂之中的催化剂,以及步骤(b)包括如下步骤:将该溶液催化剂在床壁上以液态形式至少基本均匀地涂布于该反应器系统的床壁,和然后干燥已涂布的溶液催化剂或者允许已涂布的溶液催化剂干燥直到床壁上留下干燥催化剂。
10.权利要求1-9中任一项的方法,其中该溶液催化剂包含至少一种溶于溶剂之中的催化剂,所述方法也包括步骤(c):
(c)实施用催化剂催化的聚合反应,以在每一所述不敏感表面上形成聚合物涂层以生成绝缘层以减少在随后的反应器系统内聚合反应期间反应器系统内的带静电。
11.权利要求10的方法,其中实施步骤(a)、(b)以及(c)以防止步骤(c)期间系统任一部件由过量聚合物材料引起的结垢。
12.权利要求10的方法,其中实施步骤(a)、(b)以及(c)以在步骤(c)期间在每一敏感表面上比在每一不敏感表面上形成更少的聚合物。
13.权利要求1-12中任一项的方法,其中该溶液催化剂包含至少一种溶于溶剂之中的催化剂,所述方法也包括步骤(c):
(c)实施用催化剂催化的聚合反应,以在每一所述不敏感表面和每一所述敏感表面上形成聚合物涂层以生成绝缘层以减少在随后的反应器系统内聚合反应期间反应器系统内的带静电。
14.权利要求13的方法,其中实施步骤(a)、(b)和(c)以防止步骤(c)期间系统任一部件由过量聚合物材料引起的结垢。
15.权利要求13的方法,其中实施步骤(a)、(b)和(c)以在步骤(c)期间在每一敏感表面上比在每一不敏感表面上形成更少的聚合物。
16.权利要求13的方法,其中实施步骤(a)、(b)和(c)以使步骤(c)期间每一所述敏感表面上形成的聚合物涂层比在每一所述不敏感表面上形成的聚合物涂层的平均厚度更小。
17.权利要求1-16中任一项的方法,其中该反应器系统包括分配板表面、冷却器表面、压缩机表面、再循环管道表面以及反应器床壁,至少一个敏感表面是或者包括分配板表面、该冷却器表面、该压缩机表面、以及该再循环管道表面中至少一个,以及至少一个不敏感表面是该反应器床壁以及所述反应器床壁一部分中的一个。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尤尼威蒂恩技术有限责任公司,未经尤尼威蒂恩技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310068192.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。