[发明专利]显示面板及其制备方法、掩膜板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板，以及设置在所述第一显示基板和第二显示基板之间的主隔垫物和辅助隔垫物，其特征在于，所述主隔垫物和辅助隔垫物均设置于所述第一显示基板上，或所述主隔垫物和辅助隔垫物均设置于所述第二显示基板上，并且至少一个所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为平面，和/或至少一个所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为凸面。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，当所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为凸面时，所述辅助隔垫物包括主体部和悬空凸起部，所述悬空凸起部背离所述主体部的一面为半球面。

3.一种用于制备权利要求1或2所述的显示面板的半色调掩膜板，包括衬底基板和位于所述衬底基板上的遮光膜层，所述遮光膜层具有与所述辅助隔垫物一一对应的半色调透光区，所述半色调透光区设置有半色调透光膜，其特征在于，至少一个所述半色调透光膜的中心区域为镂空区域。

4.根据权利要求3所述的半色调掩膜板，其特征在于，所述遮光膜层为铬膜层。

5.一种半色调掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成遮光膜层，并通过一次构图工艺在所述遮光膜层形成半色调透光区的开口区域；

在完成上述步骤的衬底基板上形成半色调透光膜，并通过一次构图工艺在所述半色调透光区的中心区域形成镂空区域。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在完成上述步骤的衬底基板上形成半色调透光膜，并通过一次构图工艺在所述半色调透光区的中心区域形成镂空区域，具体包括：

在衬底基板上形成半色调透光膜；

在半色调透光膜上涂覆一层光刻胶；

采用描画显影工艺，使光刻胶形成光刻胶去除区域和光刻胶保留区域，并去除光刻胶去除区域的光刻胶；光刻胶去除区域对应半色调透光区的中心区域，光刻胶保留区域对应于上述区域以外的区域；

对半色调透光区中心区域的半色调透光膜进行刻蚀；

剥离剩余光刻胶。

7.一种半色调掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成遮光膜层，并通过一次构图工艺在所述遮光膜层形成中心区域保留遮光膜层的半色调透光区的区域；

在完成上述步骤的衬底基板上形成半色调透光膜，并通过一次构图工艺去除所述中心区域保留的遮光膜层，在所述中心区域保留遮光膜层的半色调透光区的中心区域形成镂空区域。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在完成上述步骤的衬底基板上形成半色调透光膜，并通过一次构图工艺去除所述中心区域保留的遮光膜层，在所述中心区域保留遮光膜层的半色调透光区的中心区域形成镂空区域，具体包括：

在衬底基板上形成一层半色调透光膜；

然后在半色调透光膜上涂覆一层光刻胶；

采用描画显影工艺，使光刻胶形成光刻胶去除区域和光刻胶保留区域，并去除光刻胶去除区域的光刻胶；光刻胶去除区域对应中心区域保留遮光膜层的半色调透光区的区域，光刻胶保留区域对应于上述区域以外的区域；

对遮光膜层中没有光刻胶覆盖的区域进行刻蚀，形成半色调透光层图形和遮光层图形；

剥离剩余光刻胶。

9.一种如权利要求1或2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，使用如权利要求3或4所述的半色调掩膜板制备辅助隔垫物。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1或2所述的显示面板。