[发明专利]显示面板及其制备方法、掩膜板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201310083869.2 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN103235450A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 袁慧芳 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1333;G03F1/32;G03F1/68;G03F7/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 230011 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 掩膜板 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示面板及其制备方法、掩膜板及其制备方法、显示装置。
背景技术
在当今显示技术行业,显示面板由第一显示基板和第二显示基板对盒而成,为了维持两者之间的盒厚,目前通常采用在第一显示基板和第二显示基板之间设置隔垫物来实现。
以液晶显示面板(包括相对设置的彩膜基板和阵列基板)中主隔垫物和辅助隔垫物均设置于彩膜基板上为例,如图1所示,彩膜基板的透明基板03上的隔垫物分为主隔垫物01和辅助隔垫物02,其中主隔垫物01较高,辅助隔垫物02较低,主隔垫物01和辅助隔垫物02之间的段差需要设置在0.6um左右,主隔垫物01和辅助隔垫物02之间的段差可以在其制备过程中使用半色调掩膜板实现。
在实际生产中发明人分析发现,目前彩膜基板中制备的辅助隔垫物02悬空一端的端面中心区域具有凹陷部021,呈现凹状的盆地形貌,现有技术中彩膜基板中的辅助隔垫物02支撑阵列基板时的稳定性较差,进而降低产品性能。
发明内容
本发明提供了一种显示面板,该显示面板中的辅助隔垫物的支撑稳定性较高。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种显示面板,包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板,以及设置在所述第一显示基板和第二显示基板之间的主隔垫物和辅助隔垫物,所述主隔垫物和辅助隔垫物均设置于所述第一显示基板上,或所述主隔垫物和辅助隔垫物均设置于所述第二显示基板上,并且至少一个所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为平面,和/或至少一个所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为凸面。
优选地,当所述辅助隔垫物的悬空一端的端面为凸面时,所述辅助隔垫物包括主体部和悬空凸起部,所述悬空凸起部背离所述主体部的一面为半球面。
本发明提供的显示面板中,其主隔垫物和辅助隔垫物设置在同一个显示基板上,且至少一个辅助隔垫物悬空一端的端面为平面,和/或,至少一个辅助隔垫物的悬空一端的端面为凸面;为便于描述,下面以主隔垫物和辅助隔垫物均设置于第一显示基板上为例进行描述:
当显示面板的第一显示基板和第二显示基板之间的压力过大时,辅助隔垫物的悬空一端的端面支撑在第二显示基板朝向第一显示基板的一面;辅助隔垫物悬空一端的端面为平面时,能够增加辅助隔垫物悬空一端的端面与第二显示基板之间的接触面积,提高辅助隔垫物支撑时的稳定性;辅助隔垫物悬空一端的端面为凸面时,辅助隔垫物悬空一端的端面在受力之后会发生形变,增加辅助隔垫物悬空一端的端面与第二显示基板之间的支撑面积,从而增加辅助隔垫物支撑时的稳定性,提高产品性能。
因此,本发明提供的显示面板中辅助隔垫物的支撑稳定性较高。
本发明还提供了一种用于制备上述技术方案中提供的任一种显示面板的半色调掩膜板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的遮光膜层,所述遮光膜层具有与所述辅助隔垫物一一对应的半色调透光区,所述半色调透光区设置有半色调透光膜,至少一个所述半色调透光膜的中心区域为镂空区域。
优选地,所述遮光膜层为铬膜层。
上述半色调掩膜板的半色调透光区的中心区域为镂空区域,因此,在制备辅助隔垫物时,该掩膜板能够提高与辅助隔垫物悬空一端的端面中心位置对应区域的曝光强度,从而能够使制备的辅助隔垫物悬空一端的端面为平面或者凸面。
本发明还提供了一种半色调掩膜板的制备方法,包括:
在衬底基板上形成遮光膜层,并通过一次构图工艺在所述遮光膜层形成半色调透光区的开口区域;
在完成上述步骤的衬底基板上形成半色调透光膜,并通过一次构图工艺在所述半色调透光区的中心区域形成镂空区域。
优选地,所述在完成上述步骤的衬底基板上形成半色调透光膜,并通过一次构图工艺在所述半色调透光区的中心区域形成镂空区域,具体包括:
在衬底基板上形成半色调透光膜;
在半色调透光膜上涂覆一层光刻胶;
采用描画显影工艺,使光刻胶形成光刻胶去除区域和光刻胶保留区域,并去除光刻胶去除区域的光刻胶;光刻胶去除区域对应半色调透光区的中心区域,光刻胶保留区域对应于上述区域以外的区域;
对半色调透光区中心区域的半色调透光膜进行刻蚀;
剥离剩余光刻胶。
另外,本发明还提供了半色调掩膜板的另一种制备方法,包括:
在衬底基板上形成遮光膜层,并通过一次构图工艺在所述遮光膜层形成中心区域保留遮光膜层的半色调透光区的区域;
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