[发明专利]一种改进结构的电弧靶及其控制系统

权利要求书

1.一种改进结构的电弧靶，包括靶桶(1)、引弧电极(2)、靶材(3)、弧电流源(4)和冷却装置(5)；所述靶桶(1)安装在涂层设备的真空室(12)上，引弧电极(2)设在靶材(3)上并连通引弧电路(11)；所述引弧电路(11)连接端设在靶桶(1)外壳上，靶材通过靶座(3-1)安装在靶桶(1)内；其特征在于：靶材(3)呈截头圆锥状，冷却装置(5)直接与靶座(3-1)连接，构成对靶材的直接冷却结构；在靶座(3-1)的外表面设有灭弧圈(6)，以防止弧斑烧蚀靶座(3-1)及冷却装置(5)；在靶桶(1)的外表面设有产生电磁场用于稳定电弧弧斑的可调式环形电磁线圈(7)，环形电磁线圈(7)的输入端连接直流电源(8)。

2.根据权利要求1所述的一种改进结构的电弧靶，其主要特征在于：所述冷却装置(5)由进水管(5-1)、出水管(5-2)，以及连通靶座(3-1)的内部空腔构成，冷却水通过靶座(3-1)循环带走热量，以实现电弧冷却。

3.根据权利要求1或2所述的一种改进结构的电弧靶，其特征在于：所述靶材(3)的中轴线与靶桶(1)的中轴线重合，靶材工作面原始厚度为35mm，靶面烧蚀后的厚度最薄达3mm。

4.根据权利要求1或2所述的一种改进结构的电弧靶，其特征在于：环形电磁线圈(7)由空心电磁线圈构成。

5.根据权利要求4所述的一种改进结构的电弧靶，其特征在于：空心线圈为产生强电磁场强的电磁线圈，其磁场方向与靶材(3)中轴线方向一致。

6.一种如权利要求1所述改进结构电弧靶的控制系统，其特征在于：包括由靶桶(1)、引弧电极(2)、引弧电路(11)、靶材(3)、弧电流源(4)、冷却装置(5)、灭弧圈(6)和环形电磁线圈(7)、直流电源(8)构成的电弧靶和所述电弧靶的控制单元(9)；在冷却装置(5)中设置有水温传感器(10)；控制单元(9)的信号输入端连接水温传感器(10)的信号输出端；控制单元(9)的输出端之一连接弧电流源(4)的控制输入端；控制单元(9)的输出端之二连接直流电源(8)的控制输入端，直流电源(8)的输出端连接环形电磁线圈(7)的电源端；控制单元(9)具有根据工艺参数电弧电流的大小，自动调节弧电流源(4)和环形电磁线圈(7)的直流电源(8)的功能，以及监测冷却水温度、水流量、水压力的功能结构，构成智能型电弧靶的控制系统。

7.根据权利要求6所述的控制系统，其特征在于：控制单元(9)的输出端连接引弧电路(11)的控制输入端，通过控制引弧电路(11)的输入信号以控制引弧电路(11)，通过引弧电极(2)在靶材(3)侧面产生电弧火花。

8.根据权利要求6或7所述的控制系统，其特征在于：控制单元(9)由计算机及控制硬件与软件构成。