[发明专利]用联吡啶钌电致化学发光法测定痕量左旋咪唑的方法

权利要求书

1.一种用联吡啶钌电致化学发光法测定痕量左旋咪唑的方法，其特征在于具体步骤为：

（1）铂电极的处理：

将铂电极依次用1.0 μm、0.3 μm 和0.05 μm的氧化铝粉进行表面抛光处理，然后依次在体积百分比浓度为50%的硝酸、无水乙醇和纯水中浸泡洗涤，取出后超声洗涤5分钟；

（2）检测方法：

将步骤（1）处理好的铂电极放入含有2.0×10^-10 ~ 1.0×10^-7 mol/L的左旋咪唑标准溶液的检测体系统中，直接测定发光强度；检测体系为：350 μL含有5 mmol/L联吡啶钌的12 mmol/L硼砂缓冲溶液，硼砂缓冲溶液pH=9.0；用MPI-A电致化学发光检测仪进行电致化学发光检测，扫描电位0.2 ~ 1.3V，光电倍增管高压为800 V，放大倍数为4级；

（3）标准工作曲线的绘制：

在体积为350 μL的检测池中加入含有浓度为2.0×10^-10 ~ 1.0×10^-7 mol/L的左旋咪唑和5 mmol/L联吡啶钌的12 mmol/L硼砂缓冲溶液，硼砂缓冲液pH=9.0，进行电致化学发光检测；左旋咪唑在2×10^-10 ~ 1×10^-7 mol/L范围内，lgC与发光峰增强即?I呈良好的线性关系，其线性回归方程为：?I =269.684lgC-20.616，线性相关系数r =0.9977。