[发明专利]氟磷酸玻璃、精密模压成形用预成形件、光学元件坯料、光学元件以及它们的制造方法有效
| 申请号： | 201310091618.9 | 申请日： | 2009-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN103193385A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 池西干男 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | C03C3/247 | 分类号： | C03C3/247;G02B1/00;C03B11/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磷酸 玻璃 精密 模压 成形 光学 元件 坯料 以及 它们 制造 方法 | ||
1.一种氟磷酸玻璃，其特征在于，
将磷成分换算成P5+时，该氟磷酸玻璃包含大于3阳离子%而小于等于30阳离子%的P5+，核磁共振谱中的31P的基准频率附近产生的共振峰值的一次边带峰值的强度I（1）与所述共振峰值的强度I（0）之比I（1）/I（0）小于等于0.08。
2.如权利要求1所述的氟磷酸玻璃，其特征在于，
O2－的含量与P5+的含量的摩尔比O2－/P5+大于等于3.5。
3.如权利要求1所述的氟磷酸玻璃，其特征在于，
当以阳离子%表示时，含有：
P5+： 大于3%而小于等于30%，
Al3+： 5～40%，
Mg2+： 0～10%，
Ca2+： 0～40%，
Sr2+： 0～30%，
Ba2+： 0～30%，
（其中，Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+的总含量大于等于30%）
Li+： 0～20%，
Na+： 0～10%，
K+： 0～10%，
Y3+： 0～10%，
La3+： 0～10%，
Gd3+： 0～10%，
Yb3+： 0～10%，
B3+： 0～5%，
Zn2+： 0～20%，
In3+： 0～5%，
当以阴离子%表示时，含有：
F－： 50～98%，
O2－： 2～50%。
4.如权利要求1所述的氟磷酸玻璃，其中，
阿贝数νd为75～98。
5.如权利要求1所述的氟磷酸玻璃，其中，
折射率nd为1.43～1.52。
6.如权利要求1所述的氟磷酸玻璃，其中，
内部所包含的粒径大于等于10μm的金属粒子的数密度小于5个/cm3。
7.一种精密模压成形用预成形件，由权利要求1至6中任一项所述的氟磷酸玻璃形成。
8.一种光学元件坯料，由权利要求1至6中任一项所述的氟磷酸玻璃形成。
9.一种光学元件，由权利要求1至6中任一项所述的氟磷酸玻璃形成。
10.一种光学元件的制造方法，对权利要求7所述的预成形件进行加热，并使用模压成形模具进行精密模压成形。
11.一种光学元件的制造方法，对权利要求8所述的光学元件坯料进行磨削、研磨。
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