[发明专利]氟磷酸玻璃、精密模压成形用预成形件、光学元件坯料、光学元件以及它们的制造方法有效
申请号: | 201310091618.9 | 申请日: | 2009-03-30 |
公开(公告)号: | CN103193385A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 池西干男 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | C03C3/247 | 分类号: | C03C3/247;G02B1/00;C03B11/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磷酸 玻璃 精密 模压 成形 光学 元件 坯料 以及 它们 制造 方法 | ||
本申请是分案申请,其原申请的申请号为200910132623.3,申请日为2009年3月30日,发明名称为“氟磷酸玻璃、精密模压成形用预成形件、光学元件坯料、光学元件以及它们的制造方法”。
技术领域
本发明涉及适于作为透镜、棱镜、过滤器等光学元件材料的氟磷酸玻璃、由所述玻璃形成的精密模压成形用预成形件、光学元件坯料、光学元件以及它们的制造方法。
背景技术
氟磷酸玻璃由于色散低、具有异常色散性、在可见区的大的范围内能够得到高的光线透射率等性质而需求大。低色散性、异常色散性对校正色差较为有效,优良的高的光线透射性不但作为构成摄像光学系统的光学元件材料,而且作为用于引导近紫外光等短波长的光的光学元件材料也较为有效,并且通过使该氟磷酸玻璃含有铜离子,能够赋予切断近红外光的过滤功能,并作为半导体摄像元件的色校正过滤材料也较为有效。专利文献1、2记载了上述的氟磷酸玻璃。
如上所述,氟磷酸玻璃是有用的光学材料,但是由于在高温状态下显示出显著的挥发性,因此在由熔融玻璃制造玻璃成形体时容易产生条纹,从而难以稳定地生产出高质量的玻璃。另外,由于挥发成分可以从熔融状态的玻璃中随时间的流逝而消失,因此也存在折射率等光学特性容易变化的问题。
为了解决这样的问题,专利文献2记载了使挥发性物质从熔融玻璃中充分地挥发,并在该物质的挥发降低了的时点进行急冷而得到玻璃的方法。
该方法通过使玻璃在再次熔融的前后的折射率差成为预定范围内来达到预定的目的。
专利文献1:日本专利文献特开平10-139454号公报;
专利文献2:日本专利文献特开2007-76958号公报。
发明内容
日本专利文献特开2007-76958号公报所公开的发明是解决氟磷酸玻璃固有的问题的非常优良的技术,但是基于以下的观点期望进一步改善。
在氟磷酸玻璃的熔融中,使用了耐蚀性优良的铂系坩埚,以降低熔融容器的熔解。但是,即使使用铂,铂容器也会稍微被熔融玻璃侵蚀,从而铂离子会熔解到玻璃中。在熔融原料的工序和澄清玻璃的工序中,由于玻璃的温度高,因此玻璃中的铂会作为离子而熔解,但是一旦将玻璃降温到适于流出的温度区域,则熔解的铂离子会作为粒子而开始析出。在氟磷酸玻璃中,由于铂离子的熔解度低,因此铂粒子非常容易析出。析出的铂粒子作为杂质而变为透射玻璃的光的散射源,从而成为降低作为光学元件的性能或者照射强光时发生的玻璃的破坏的起点。
为了解决这样的问题,期望除了降低挥发性以外还降低侵蚀性。
本发明是鉴于这样的情况而完成的,其目的在于提供一种高质量的氟磷酸玻璃、由所述玻璃形成的精密模压成形用预成形件、光学元件坯料、光学元件以及它们的制造方法。
为了解决上述问题,本发明提供以下的手段。
(1)一种氟磷酸玻璃,其特征在于,
将磷成分换算成P5+,包含大于3阳离子%而小于等于30阳离子%的P5+,核磁共振谱中的31P的基准频率附近产生的共振峰值的一次边带峰值的强度I(1)与所述共振峰值的强度I(0)之比I(1)/I(0)小于等于0.08。
(2)如上述(1)项所述的氟磷酸玻璃,其特征在于,
O2-的含量与P5+的含量的摩尔比O2-/P5+大于等于3.5。
(3)如上述(1)项或(2)项所述的氟磷酸玻璃,其特征在于,
当以阳离子%表示时,含有:
P5+: 大于3%而小于等于30%,
Al3+: 5~40%,
Mg2+: 0~10%,
Ca2+: 0~40%,
Sr2+: 0~30%,
Ba2+: 0~30%,
(其中,Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+的总含量大于等于30%)
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