[发明专利]一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术

权利要求书

1.一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术，其特征在于，包括以下步骤：

1)多肽芯片的合成，具体包括：

1.1多肽微阵列芯片上的多肽合成：用半自动合成仪吸取足量的氨基酸活化溶液点印于纤维素膜上，进行多肽点合成反应；

1.2多肽微阵列芯片合成中侧链钝化；

1.3多肽微阵列芯片合成中每层Fmoc保护基团的去除；

1.4多肽微阵列芯片合成过程中的染色；

1.5重复1.2至1.4步骤继续合成多肽微阵列芯片，按照预先设定的程序，直至多肽合成完成；

1.6将完成最后一层氨基酸合成的多肽微阵列芯片膜置于-20℃冰箱保存或直接进行下一步反应；

2)多肽侧链保护基团的去除；

3)多肽芯片的杂交反应。

2.根据权利要求1所述的一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术，其特征在于，所述步骤1.1中的的氨基酸活化溶液的配制方法为：

1)配制氨基酸激活剂：以DMF为溶剂，配制0.5M DIC溶液；

2)配制各种氨基酸储备液溶液：以DMF为溶剂，配制0.5M HOBt溶液，再将配制好的0.5M的HOBt溶液作为溶剂分别配制不同种类的Fmoc保护氨基酸，使溶液达到浓度为0.5M的氨基酸储备液；

3)配制氨基酸激活溶液：用步骤1)中配制0.5M的DIC氨基酸激活剂和步骤2)中各种氨基酸储备液溶液以1∶1的比例混合，所得溶液即浓度为0.25M的氨基酸激活溶液。

3.根据权利要求2所述的一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术，其特征在于，所述氨基酸激活溶液配制后室温静置15min以上使用。

4.根据权利要求1所述的一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术，其特征在于，还包括步骤4)多肽微阵列芯片的再生。

5.根据权利要求1所述的一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术，其特征在于，所述步骤1.2多肽微阵列芯片合成中侧链钝化的方法为：在多肽微阵列芯片合成每一层结束后，纤维素膜正面朝下置于玻璃平皿中，用钝化溶液I完全浸润10min后，弃去钝化溶液I，加入钝化溶液II，再次静置10min，弃去钝化溶液II，将纤维素膜正面朝上，加入DMF溶液，再震荡洗膜6次，每次2min，所述钝化溶液I为2％乙酸酐的DMF溶液，所述钝化溶液II为含2％酸酐、2％二异丙基胺的DMF溶液。

6.根据权利要求1所述的一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术，其特征在于，所述步骤1.3多肽微阵列芯片合成中每层Fmoc保护基团的去除方法为：多肽微阵列芯片合成中侧链钝化后，将纤维素膜放入新的玻璃平皿中，加入去Fmoc保护基团溶液后震荡反应去除Fmoc氨基保护基团，此步骤重复两次，每次10min，之后用DMF溶液震荡洗膜6次，每次2min；再用无水乙醇震荡洗膜两次，每次2min，室温晾干，所述去Fmoc保护基团溶液为含20％Piperidine的DMF溶液。

7.根据权利要求1所述的一种用于B细胞抗原表位筛查的多肽阵列合成技术，其特征在于，所述步骤1.4多肽微阵列芯片合成过程中的染色方法为：在多肽微阵列芯片合成中每层Fmoc保护基团的去除后，将纤维素膜放入新的玻璃平皿中，加入足量无水乙醇完全浸没纤维素膜，并加入5-6滴溴酚蓝染色溶液，摇动染色2min至膜上呈现蓝色多肽点时用无水乙醇震荡洗膜2-5次直至洗液无蓝色出现，取出纤维素膜室温晾干或者使用冷风从芯片反面使纤维素膜干燥，所述溴酚蓝染色溶液为含0.1％溴酚蓝的乙醇溶液。