[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备无效

专利信息
申请号: 201310094769.X 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN103176306A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 王明超;林鸿涛;王俊伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02B5/20
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制作方法 液晶面板 显示 设备
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板,包括衬底基板,以及设置在所述衬底基板上的多个色阻单元,其特征在于,所述彩膜基板还包括用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述标记结构包括行号标记,其中所述行号标记表示一个色阻单元所处的沿第一方向的行的行号,或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第一方向的相邻多行的共用行号。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述标记结构还包括列号标记,其中所述列号标记用于表示一个色阻单元所处的沿第二方向的列的列号,或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第二方向的相邻多列的共用列号;

所述第一方向和所述第二方向垂直。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述标记结构设置在所述色阻单元的周边任意位置。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,还包括隔垫物层,所述标记结构与所述隔垫物层同层形成。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述像素为亚像素。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述隔垫物层包括柱状隔垫物,所述柱状隔垫物与所述标记结构通过构图工艺共同形成在所述隔垫物层。

8.根据权利要求1-7任一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述标记结构包括数字、字母中任一种或几种的组合。

9.根据权利要求1-7任一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板还包括黑矩阵,所述标记结构形成在所述黑矩阵对应的区域内。

10.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

在衬底基板上形成包括色阻单元的图形;

形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。

11.根据权利要求10所述彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述在衬底基板上形成包括色阻单元的图形,色阻单元包括以下步骤:

通过构图工艺,形成黑矩阵的图形;

通过构图工艺,形成所述色阻单元的图形。

12.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,

所述方法还包括:在形成有所述色阻单元和所述黑矩阵的衬底基板上,形成隔垫物层;

所述形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构,包括:通过构图工艺,在形成所述隔垫物层的同时形成所述标记结构。

13.一种液晶面板,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的彩膜基板。

14.一种显示设备,其特征在于,包括权利要求13所述的液晶面板。

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