[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其是指一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备。

背景技术

随着TFT-LCD面板生产线的高世代化及面板的大尺寸化，各种不良发生的比例也有所加重，在面板修复和面板的不良分析中，像素的精确定位已成为一个显著的问题，特别是在使用扫描电镜，3D显微镜，原子力显微镜，红外光谱仪等进行分析时，在制样过程中均需要将面板进行切割。如何保证在切割前后不良区的精确定位已经成为了一个严重的问题，此外对于彩膜基板而言在某些仪器中无法进行颜色的辨别，所以更加不易确定所要研究的像素，如何解决此问题已经非常重要。

传统面板定位方式主要是基于相对坐标的方法，也即：将面板置于基台上，通过坐标的变化记录不良的坐标，再进行修复和分析，但是该方法存在明显的不足，首先采用相对坐标时，离开仪器的基台之后，容易产生定位的紊乱，其次大尺寸基板在某些小基台的分析仪器上（SEM/3D OM），无法实现相对的坐标定位，再次通过相对坐标在基板不良区附近标记激光Mark（标记）时，可能会对不良区的不良现象产生影响。

发明内容

本发明技术方案的目的是提供一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备，用于解决现有技术面板修复和分析过程中难以对像素精确定位的问题。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为：一种彩膜基板，包括衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的多个色阻单元，所述彩膜基板还包括用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。

进一步的，所述标记结构包括行号标记，其中所述行号标记表示一个色阻单元所处的沿第一方向的行的行号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第一方向的相邻多行的共用行号。

进一步的，所述标记结构还包括列号标记，其中所述列号标记用于表示一个色阻单元所处的沿第二方向的列的列号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第二方向的相邻多列的共用列号；

所述第一方向和所述第二方向垂直。

进一步的，所述标记结构设置在所述色阻单元的周边任意位置。

进一步的，还包括隔垫物层，所述标记结构与所述隔垫物层同层形成。

进一步的，所述像素为亚像素。

进一步的，所述隔垫物层包括柱状隔垫物，所述柱状隔垫物与所述标记结构通过构图工艺共同形成在所述隔垫物层。

进一步的，所述标记结构包括数字、字母中任一种或几种的组合。

进一步的，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述标记结构形成在所述黑矩阵对应的区域内。

本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，包括以下步骤：

在衬底基板上形成包括色阻单元的图形；

形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。

进一步的，所述在衬底基板上形成包括色阻单元的图形，包括以下步骤：

通过构图工艺，形成黑矩阵的图形；

通过构图工艺，形成所述色阻单元的图形。

进一步的，所述方法还包括：在形成有所述色阻单元和所述黑矩阵的衬底基板上，形成隔垫物层；

所述形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构，包括：通过构图工艺，在形成所述隔垫物层的同时形成所述标记结构。

本发明还提供一种液晶面板，包括上述的彩膜基板。

本发明还提供一种显示设备，包括上述的液晶面板。

本发明的有益效果是：本发明通过在彩膜基板的对色阻单元对应的像素进行标记，实现了像素的绝对坐标标记，无论是在那种仪器的基台，也无论基板的切割与否都能够快速准确的找到不良区，从而进行定址定位，能有效提高修复和分析的效率及准确性。

附图说明

图1表示本发明彩膜基板的俯视图；

图2表示本发明彩膜基板的A-A向剖视图；

图3表示本发明彩膜基板的B-B向剖视图；

图4表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第一步骤制备的俯视图；

图5表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第一步骤制备的A-A向剖视图；

图6表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第一步骤制备的B-B向剖视图；

图7表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第二步骤制备的A-A向剖视图；

图8表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第二步骤制备的B-B向剖视图；

图9表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第三步骤制备的A-A向剖视图；

图10表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第三步骤制备的B-B向剖视图；