[发明专利]柔性光电器件衬底、柔性光电器件及制备方法

权利要求书

1.一种柔性光电器件衬底，所述柔性光电器件衬底用于制备柔性光电器件，在制备柔性光电器件过程中，在柔性光电器件衬底上会形成一层高分子薄膜，其特征在于，所述柔性光电器件衬底包括玻璃基板以及用于缓冲高分子薄膜与玻璃基板间膨胀量差的金属薄膜，以防止高分子薄膜从玻璃基板上脱落；所述金属薄膜设置于所述玻璃基板表面的边缘区域，所述金属薄膜在所述玻璃基板表面围合形成用于加工所述柔性光电器件的面板形成区。

2.根据权利要求1所述的柔性光电器件衬底，其特征在于，所述金属薄膜是采用热膨胀系数为5×10^-6~20×10^-6mm/℃的金属材料形成的。

3.根据权利要求2所述的柔性光电器件衬底，其特征在于，所述金属材料为铜、铬、钼、钨或铜铝合金。

4.根据权利要求1所述的柔性光电器件衬底，其特征在于，所述面板形成区内包括多个用于制备单个柔性光电器件的单元面板形成区以及多个单元面板形成区之间形成的非面板粘结区；在所述非面板粘结区上设置有用于缓解高分子薄膜与玻璃基板间膨胀量差的金属薄膜。

5.根据权利要求1所述的柔性光电器件衬底，其特征在于，所述金属薄膜的厚度为100~500nm。

6.根据权利要求1~5任一所述的柔性光电器件衬底，其特征在于，所述玻璃基板的表面淀积形成一层牺牲层；所述牺牲层设置在所述玻璃基板与金属薄膜之间。

7.一种如权利要求1所述的柔性光电器件衬底的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

选择热膨胀系数介与高分子薄膜与玻璃基板间金属材料，采用所述金属材料在所述玻璃基板上溅射一层金属层，经光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀，所述玻璃基板表面的边缘区域形成一层金属薄膜。

8.根据权利要求7所述的玻璃基板的制备方法，其特征在于，在所述玻璃基板上溅射一层金属层前，还包括以下步骤：

在所述玻璃基板上淀积形成牺牲层。

9.一种柔性光电器件的制备方法，其特征在于，所述柔性光电器件的制备包括柔性光电器件衬底的制备步骤，所述柔性光电器件衬底采用如权利要求7所述的柔性光电器件衬底的制备方法制备。

10.一种柔性光电器件，其特征在于，所述柔性光电器件采用如权利要求1所述的柔性光电器件衬底。