[发明专利]用于产生等离子体与离子间反应的质谱装置及方法有效
申请号: | 201310099524.6 | 申请日: | 2013-03-26 |
公开(公告)号: | CN103219220A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 贾滨;徐国宾;杨芃原 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01J49/04 | 分类号: | H01J49/04;H01J49/12 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 产生 等离子体 离子 反应 装置 方法 | ||
技术领域
本发明属于质谱分析技术领域,具体涉及一种可用于等离子体-离子反应的质谱装置及方法。
背景技术
质谱(又叫质谱法)是一种与光谱并列的谱学方法,通常意义上是指广泛应用于各个学科领域中通过制备、分离、检测气相离子来鉴定化合物的一种专门技术。质谱法在一次分析中可提供丰富的结构信息,将分离技术与质谱法相结合是分离科学方法中的一项突破性进展。在众多的分析测试方法中,质谱学方法被认为是一种同时具备高特异性和高灵敏度且得到了广泛应用的普适性方法。质谱仪器一般由样品导入系统、离子源、质量分析器、检测器、数据处理系统等部分组成。
质谱分析是一种测量离子荷质比(电荷-质量比)的分析方法,其基本原理是使试样中各组分在离子源中发生电离,生成不同荷质比的带正电荷的离子,经加速电场的作用,形成离子束,进入质量分析器。在质量分析器中,再利用电场和磁场使发生相反的速度色散,将它们分别聚焦而得到质谱图,从而确定其质量。除分子质量分析外,目前质谱技术研究,尤其是生物大分子的研究中还会通过串联质谱技术使母离子碎裂,并通过碎片的情况对其分子的结构进行研究和分析。现有的主要碎裂方式有碰撞诱导解离(CID),电子捕获解离(ECD),电子转移解离(ETD)等。这些技术目前均需要专用的质谱设备,且相关技术多被国外的生产厂商控制和保护,商用仪器价格昂贵。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种等离子体-离子反应装置及其方法,用于解决现有质谱分析技术中商用仪器价格昂贵的问题。
为实现上述目的,本发明提供一种用于产生等离子体与离子间反应的质谱装置,该装置至少包括:
常压电离气室;
与所述常压电离气室导通的质谱离子源产生装置;
与所述常压电离气室导通的绝缘材料制成的离子传输管;
套设在所述离子传输管外、与所述常压电离气室导通的反吹气通道;
套设在所述离子传输管外表面、用于激发等离子体的射频电极及其电源;
以及设置于离子传输管另一端的质谱仪。
优选地,该装置进一步包括与所述常压电离气室导通的排废口。
优选地,所述绝缘材料包括石英、玻璃或陶瓷。
优选地,所述射频电极采用铝箔。
本发明还提供一种用于产生等离子体与离子间反应的质谱方法,包括以下步骤:
1)与常压电离气室导通的离子源将待测物电离,产生待测离子;
2)通过反吹气通道,向该常压电离气室内通入反应气体;
3)在设置于离子传输管另一端的质谱仪的真空设备作用下,反应气体和待测离子一起抽入到离子传输管中;
4)在离子传输管外壁的射频电极上施加射频电压,用以激发离子传输管内的反应气体,产生等离子体,进而引发待测离子与等离子体间的反应,使待测离子发生离子化学行为;
5)待测离子与等离子体间的反应产生的产物离子,经过离子传输管后,经离子传输系统引入质量分析器,进行质谱分析。
优选地,所述射频电极施加的射频电压为3kV,50kHz中频电压或者13.6MHz,50W射频电压。
优选地,反应气体和离子源产生的废液、废气通过与常压电离气室导通的排废口排出。
本发明利用质谱仪现有的常压引入离子的接口技术,采用绝缘材料(如玻璃、陶瓷等)制成的离子传输管,即可在质谱前级部分的低真空作用下,在离子传输管中激发等离子体,并引发等离子体和待测离子间的反应。该装置实现简单、生产成本便宜,可以在串联质谱分析和气相离子化学研究中应用。
附图说明
图1显示为本发明等离子体与离子间反应装置示意图。
图中标号:1为质谱离子源产生装置,2为常压电离气室,3为排废口,4为反吹气通道;5为射频电极及其电源,6为离子传输管。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
请参阅附图所示。需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想,遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
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