[发明专利]摩擦处理方法及光学膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310099964.1 申请日: 2013-03-26
公开(公告)号: CN103364997A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 直井博之 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 摩擦 处理 方法 光学 制造
【权利要求书】:

1.一种摩擦处理方法,其用以对配向膜形成材料赋予配向性,其特征在于:

包括利用布材摩擦所述配向膜形成材料的表面的步骤,

所述布材包括包含经线及纬线的底布组织、以及织入所述底布组织中的绒头纱线,且

所述绒头纱线为具有海岛构造的纤维。

2.根据权利要求1所述的摩擦处理方法,其特征在于:所述绒头纱线的海部为由乙烯-醋酸乙烯酯所形成,岛部为由选自聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、尼龙的树脂所形成。

3.根据权利要求1或2所述的摩擦处理方法,其特征在于:在与所述绒头纱线的长度方向垂直的剖面中,海部的面积所占的比例为50%~67%,岛部的面积所占的比例为50%~33%。

4.根据权利要求1或2所述的摩擦处理方法,其特征在于:所述绒头纱线的海岛构造为具有3个以上的岛部的构造。

5.根据权利要求1或2所述的摩擦处理方法,其特征在于:所述绒头纱线的拉伸弹性模数为0.1×1011Pa~2.0×1011Pa。

6.一种光学膜的制造方法,其特征在于包括:

在支撑体上形成配向膜形成材料的膜的步骤;以及

利用根据权利要求1至5中任一项所述的摩擦处理方法,对形成在所述支撑体上的所述配向膜形成材料的所述膜的表面进行摩擦处理的步骤。

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