[发明专利]摩擦处理方法及光学膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310099964.1 申请日: 2013-03-26
公开(公告)号: CN103364997A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 直井博之 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 摩擦 处理 方法 光学 制造
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种摩擦(rubbing)处理方法及光学膜的制造方法,尤其涉及一种制造液晶显示装置的光学补偿膜等时所使用的摩擦处理方法及光学膜的制造方法。

背景技术

近年来,液晶显示装置不断得到开发,在全世界液晶显示装置正在普及中。在液晶显示装置中使用有各种光学膜。其中,存在配向膜或光学补偿膜等通过实施摩擦处理而被赋予配向性的膜,这些膜承担重要的作用。

作为这些被赋予配向性的膜的一种的视角提升膜通常通过如下方式来制造:在将配向膜形成材料涂布在透明树脂制的带状可挠性支撑体(以下,也称为“网(web)”)的表面,并进行干燥而形成配向膜形成用树脂层后,对其表面实施摩擦处理来形成配向膜。然后,在配向膜上涂布液晶性涂布液并进行干燥而形成液晶层,其后使液晶层硬化。

摩擦处理是液晶分子的配向处理方法的具有代表性的方法,其通过如下方式来进行:在网表面形成配向膜形成材料的膜(制膜),然后使卷绕有摩擦用布材的摩擦辊旋转来摩擦该配向膜形成材料的表面。

作为此种摩擦处理方法,在专利文献1中揭示有使用如下的摩擦用布材的摩擦处理方法,所述摩擦用布材包括包含经线及纬线的底布组织、及织入该底布组织中的绒头纱线(pile yarn),该绒头纱线是在丝的表面包覆树脂制的包覆材而形成。

由此,可制造即便膜长尺寸化,光学特性的偏差也少,且光点(light spot)产生频率少的光学补偿膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2010-204173号公报

但是,专利文献1中所记载的摩擦处理方法仍然存在扬尘多的问题。

发明内容

本发明鉴于所述实际情况,欲提供一种可进行配向性良好的摩擦、且也减少扬尘的摩擦处理方法与光学膜的制造方法。

本发明的课题可通过下述的各发明来解决。

即,本发明的摩擦处理方法是用以对配向膜形成材料赋予配向性的摩擦处理方法,其主要特征在于:包括利用布材摩擦所述配向膜形成材料的表面的步骤,所述布材包括包含经线及纬线的底布组织、以及织入该底布组织中的绒头纱线,且所述绒头纱线具有海岛构造。

由此,由于绒头纱线具有海岛构造,因此可进行配向性良好、且扬尘减少的摩擦处理。

另外,本发明的摩擦处理方法的主要特征在于:绒头纱线的海部为由EVA所形成,岛部为由选自PET、PBT、尼龙的树脂所形成。

由此,可进行配向性良好、且扬尘减少的摩擦处理。

进而,本发明的摩擦处理方法的主要特征在于:在与绒头纱线的长度方向垂直的剖面中,海部的面积所占的比例为50%~67%,岛部的面积所占的比例为50%~33%。

由此,可进行配向性良好、且扬尘减少的摩擦处理。

进而,本发明的摩擦处理方法的主要特征在于:绒头纱线的海岛构造为具有3个以上的岛部的构造。

由此,可进行配向性良好、且扬尘减少的摩擦处理。

另外,本发明的摩擦处理方法的主要特征在于:绒头纱线的拉伸弹性模数为0.1×1011Pa~2.0×1011Pa。

由此,可进行配向性良好、且扬尘减少的摩擦处理。

进而,本发明的光学膜的制造方法的主要特征在于包括:在支撑体上形成配向膜形成材料的膜的步骤;以及利用所述任一种摩擦处理方法对形成在所述支撑体上的所述配向膜形成材料的所述膜的表面进行摩擦处理的步骤。

由此,可配向性良好、且扬尘减少地制造光学膜。

发明的效果

可减少扬尘。

附图说明

图1是表示光学膜的生产线的说明图。

图2(A)及图2(B)是摩擦用布材1的部分扩大立体图。

图3是说明绒头纱线的内部构造的说明图。

图4是表示粒子计数器(particle counter)的设置场所的说明图。

符号的说明

1:摩擦用布材

2:经线

3:纬线

4:绒头纱线

5:衬布

10:生产线

11A、11B:棒涂装置

15A、15B:除尘机

16:网

66:给料机

68:引导辊

70:摩擦处理装置

70A、70B:摩擦处理装置

71A、71B:除尘机

72A、72B:摩擦辊

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