[发明专利]一种掩膜板及其制造方法

权利要求书

1.一种掩膜板，包括基板，所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域；其特征在于，所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层；所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层；其中，所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度，且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述部分透光材料层包括：第一部分透光材料层和第二部分透光材料层；其中，

所述第一部分透光材料层形成于所述部分曝光区域的两端部分，且所述第一部分透光材料层与所述不透光材料层连接；所述第二部分透光材料层形成于所述第一部分透光材料层上、以及形成于未覆盖有所述第一部分透光材料层的部分曝光区域上；或者，

所述第一部分透光材料层形成于部分曝光区域上，且所述第一部分透光材料层与不透光材料层连接；所述第二部分透光材料层形成于所述部分曝光区域的两端部分，且所述第二部分透光材料层与所述不透光材料层连接。

3.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述不曝光区域上还形成有部分透光材料层，且所述部分透光材料层形成于所述不透光材料层上。

4.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述部分透光材料层采用的材料包括：树脂或氧化铬。

5.一种掩膜板的制造方法，所述掩膜板包括基板，所述基板包括不曝光区域和部分曝光区域；其特征在于，所述方法包括：在所述基板的不曝光区域上至少形成不透光材料层；在所述基板的部分曝光区域上形成部分透光材料层，使所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度，且使所述部分曝光区域中的部分透光材料层与所述不曝光区域中的不透光材料层相连。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述部分透光材料层包括：第一部分透光材料层和第二部分透光材料层；

所述方法还包括：在所述部分曝光区域的两端部分形成所述第一部分透光材料层，且所述第一部分透光材料层与所述不透光材料层连接；在所述第一部分透光材料层上、以及形成于未覆盖有所述第一部分透光材料层的部分曝光区域上形成第二部分透光材料层；或者，

在所述部分曝光区域上形成所述第一部分透光材料层，且所述第一部分透光材料层与所述不透光材料层连接；在所述部分曝光区域的两端部分上形成所述第二部分透光材料层，且所述第二部分透光材料层与所述不透光材料层连接。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述不曝光区域上还形成有部分透光材料层；所述方法还包括：在所述不曝光区域中的不透光材料层上形成所述部分透光材料层。

8.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述部分透光材料层采用的材料包括：树脂或氧化铬。

9.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述部分透光材料层通过一次半色调掩膜工艺形成。

10.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一部分透光材料层和第二部分透光材料层通过一次半色调掩膜工艺形成、或者通过两次单色调掩膜工艺形成。