[发明专利]透明导电膜及其连通方法

权利要求书

1.一种透明导电膜，其特征在于，包括：

基底，包括第一区域，及位于所述基底边缘的第二区域；

透明导电层，埋入设置于所述第一区域，所述透明导电层包括第一网格凹槽，以及由填充于所述第一网格凹槽的导电材料形成的第一导电网格；

引线电极，形成于所述基底的第二区域，所述引线电极包括含有导电材料的第二导电网格；

所述透明导电层与所述第二区域相交处的导电材料的端部形成节点，并与对应的所述引线电极的导电材料的端点直接电连接。

2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述第二导电网格的网格线的密度大于所述第一导电网格的网格线的密度。

3.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述引线电极包括开设于所述第二区域的第二网格凹槽，所述第二导电网格的导电材料收容于所述第二网格凹槽。

4.根据权利要求3所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一网格凹槽的深度与宽度的比值不小于1，所述第二网格凹槽的深度与宽度的比值不小于1，所述第一网格凹槽的宽度和所述第二网格凹槽的宽度均不大于10μm。

5.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述引线电极凸设于所述第二区域的表面。

6.根据权利要求5所述的透明导电膜，其特征在于，所述引线电极的最小宽度为2μm～20μm，所述引线电极的高度为5μm～10μm。

7.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述基底还包括设置于所述基底之上的基质层，所述第一区域和所述第二区域均位于所述基质层。

8.根据权利要求7所述的透明导电膜，其特征在于，还包括遮光层，所述遮光层位于所述基底的边缘，所述引线电极形成于所述基质层远离所述遮光层的一侧。

9.根据权利要求1～8任意一项所述的透明导电膜，其特征在于，所述第一导电网格和/或所述第二导电网格的网格形状均为规则网格或者随机网格。

10.一种透明导电膜的连通方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基底，包括第一区域，及位于所述基底边缘的第二区域；

布设透明导电层，在所述第一区域开设第一网格凹槽，填充导电材料于第一网格凹槽并烧结，形成第一导电网格，构成透明导电层；

布设引线电极，设置导电材料于所述基底的第二区域，形成第二导电网格，构成引线电极；

在所述透明导电层与所述第二区域相交处的导电材料的端部形成节点，并与对应的所述引线电极的导电材料的端点直接电连接。

11.根据权利要求10所述的透明导电膜的连通方法，其特征在于，所述布设引线电极具体包括以下步骤：

压印，在所述基底的第二区域通过压印形成第二网格凹槽；

填充导电材料于第二网格凹槽并烧结，形成第二导电网格，构成引线电极。

12.根据权利要求10所述的透明导电膜的连通方法，其特征在于，所述布设第二导电网格具体包括：喷墨打印导电材料于所述基底的第二区域的表面，形成第二导电网格，构成引线电极。