[发明专利]光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件

权利要求书

1.一种光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于包含：

聚硅氧烷高分子(A)，是由硅烷单体组分经缩合反应而得的聚合物，且所述硅烷单体组分包括式(I)所示的硅烷单体：

(R^a)_tSi(OR^b)_4-t  式(I)

于式(I)中，t表示1至3的整数，且当t表示2或3时，多个R^a各自为相同或不同；

至少一个R^a表示经酸酐基取代的C₁～C₁₀烷基、经环氧基取代的C₁～C₁₀烷基，或经环氧基取代的烷氧基，且其余R^a表示氢、C₁～C₁₀的烷基、C₂～C₁₀的烯基，或C₆～C₁₅的芳香基；

R^b表示氢、C₁～C₆的烷基、C₁～C₆的酰基，或C₆～C₁₅的芳香基，且当4-t表示2或3时，多个R^b各自为相同或不同；

醌二叠氮磺酸酯(B)；

式(II)所示的芴系化合物(C)：

在式(II)中，R¹～R¹⁰为相同或不同，且R¹～R¹⁰中至少一个包含反应基团，且所述反应基团表示含环氧基的有机基团、含羧基的有机基团、含酸酐基的有机基团，或含氨基的有机基团；及

溶剂(D)；

且当式(I)中的R^a表示经环氧基取代的C₁～C₁₀烷基，或经环氧基取代的烷氧基时，所述式(II)中的反应基团不可为含环氧基的有机基团。

2.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，在式(I)中，至少一个R^a表示经酸酐基取代的C₁～C₁₀烷基；在式(II)中，所述反应基团表示含环氧基的有机基团。

3.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，在式(I)中，至少一个R^a表示经环氧基取代的C₁～C₁₀烷基，或经环氧基取代的烷氧基；在式(II)中，所述反应基团表示含羧基的有机基团，或含氨基的有机基团。

4.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，基于所述聚硅氧烷高分子(A)的总量为100重量份，所述式(II)所示的芴系化合物(C)的使用量范围为5重量份～120重量份。

5.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，基于所述聚硅氧烷高分子(A)的总量为100重量份，所述醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量范围为1重量份～50重量份。

6.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，基于所述聚硅氧烷高分子(A)的总量为100重量份，所述溶剂(D)的使用量范围为50重量份～1,200重量份。

7.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，还包含热酸发生剂(E)。

8.根据权利要求7所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，基于所述聚硅氧烷高分子(A)的总量为100重量份，所述热酸发生剂(E)的使用量范围为0.5重量份～20重量份。

9.一种保护膜，其特征在于，是将根据权利要求1至8中任一项所述的光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预先加热、曝光、显影及后加热处理后所形成。

10.一种具有保护膜的元件，其特征在于包含：基材以及形成于所述基材上的根据权利要求9所述的保护膜。