[发明专利]精密测长机及其光量干涉排除方法和装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及一种TFT-LCD精密测长机及其光量干涉排除方法和装置。

背景技术

TTP（Total Pitch，长寸）测长机是TFT（Thin Film Transistor Liquid，薄膜晶体管）–LCD（Liquid Crystal Display，液晶显示器）制程重要的光学量测设备，主要用于测量制作玻璃基板第一层像素图案时曝光机曝光精度长寸的量测，其量测结果直接决定了后续图像制程的曝光对位，以及最终对组贴合的精度。同时，该设备亦常用于线宽量测。TTP测长机又称为精密测长机。

TTP测长机的光学量测需要使用透射光和反射光两种光源配合使用。为了保证量测的准确性和稳定性，要求整面玻璃基板上各个位置的量测均能设定成相同的输出光量。因为TTP测长机机台对玻璃基板放置的平整度要求极高，且玻璃必须静置于机台面上不可移动，所以将机台面设计制作成透明玻璃材质平台面，且高度可调，以保证透射光的输出。为了支撑起机台面、保证整个机台面的平整度，还设计了机台架来承载机台面，而机台架一般使用不锈钢制作，且较为密集，因此导致这些区域无法进行透射光量测。同时TTP测长机机台中的气流管路、升降销孔、拼接缝等固有机构也会对光源造成干涉，导致光量不均匀，比正常区域偏高或偏低。

有些光学量测设备一般是采用玻璃基板和机台面相对移动的方式，以保证所有区域均可在移动前或移动后能避开干涉。但这种方式无法应用TTP测长机机台，因为TTP测长机机台要求玻璃基板与机台面相对位置恒定，且机台面与机台架为固定连接装置，不可能相对移动。

目前，TTP测长机机台通常采用以下方式来消除干涉：1)研发人员设计光罩时，调整光罩的造型，尽量使输出避开干涉区域。但一方面由于干涉区域较多，不同TTP机台之间也会有位置机差，设计后的实作产品很难完全避开干涉；另一方面由于某些产品的版面布局设计上的限制，导致在测量时很难避开干涉，例如一块2200mm*2500mm的玻璃基板，其版面布局设计可以划分为18块32吋的小面板，也划分为8块48吋的小面板，由于不同尺寸产品存在不同版面布局设计，不可能使所有版面布局都能避开机台的钢架干涉区，因此研发设计人员设计时也只能在一定范围内（比如±10mm）调整量测位置，这是很难完全避开干涉的。而且，这种方式亦会造成研发设计人员的工作量增加。

2)设定点位recipe量测参数（recipe在半导体领域中通常用于表示产品各种参数的集合）时进行手动调整，但是这种手动调整完全根据操作人员的工作经验，可靠性因人而异，而且增大了操作人员的工作负担。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种TFT-LCD精密测长机及其光量干涉排除方法和装置，可消除使用精密测长机时因机台架等固有机构而产生的干涉，提高了测量精确度。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种精密测长机光量干涉排除方法，包括在量测前执行以下步骤：

调节当前量测点位的反射输入光量直至测得的反射输出光量等于目标反射输出光量值，得到补正反射输入光量值，其中所有量测点位的目标反射输出光量值均相等；将所述当前量测点位的补正反射输入光量值保存在量测参数集合中

和/或调节当前量测点位的透射输入光量直至测得的透射输出光量等于目标透射输出光量值，得到补正透射输入光量值，其中所有量测点位的目标透射输出光量值均相等；将所述当前量测点位的补正透射输入光量值保存在量测参数集合中。

其中，所述调节当前量测点位的反射输入光量直至测得的反射输出光量等于目标反射输出光量值的步骤具体包括：

将当前量测点位的反射输入光量设置为初始反射输入光量值，将当前量测点位的透射输入光量值设置为零；

测量所述当前量测点位的反射输出光量；

若测得的反射输出光量大于所述目标反射输出光量值，则以预设差值逐步减小所述反射输入光量，直至测得的反射输出光量等于所述目标反射输出光亮值；

若测得的反射输出光量小于所述目标反射输出光量值，则以预设差值逐步增加所述反射输入光量，直至测得的反射输出光量等于所述目标反射输出光量值。

其中，所述调节当前量测点位的透射输入光量直至测得的透射输出光量等于目标透射输出光量值的步骤具体包括：

将当前量测点位的透射输入光量设置为初始透射输入光量值，将当前量测点位的反射输入光量值设置为零；

测量所述当前量测点位的透射输出光量；