[发明专利]真空镀膜系统及其镀膜方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜系统和使用该真空镀膜系统来对多批基片进行镀膜的镀膜方法。

背景技术

在现有的真空镀膜系统中，都包括具有镀膜部、真空室和真空泵的真空镀膜机。

当使用这种真空镀膜机对多批基片进行镀膜时，在镀膜前操作员将真空室的室门打开把基片放入真空室中，再关上室门，然后使用真空泵对真空室进行抽吸至真空状态，在镀膜完成后操作员需要把真空室的舱门打开，将镀膜完成的基片取出，再放入另一批基片并关上室门，再采用真空泵对真空室进行抽吸。

但是在上述过程中，真空泵在工作前，真空室内部压强均为标准大气压强，这样每次采用真空镀膜机对一批基片进行镀膜，真空泵都必须对已达到标准大气压的真空室进行抽吸至达到真空状态，非常耗能。

发明内容

鉴于以上问题，本发明的目的在于提供一种能够在真空泵开始工作前减小真空室的压强，起到为真空泵节省能耗的作用的真空镀膜系统及镀膜方法。

本发明为了达到以上的目的，采用了以下结构。

本发明提供一种真空镀膜系统，包括具有镀膜部、真空室以及对该真空室内的空气进行抽吸至真空状态的真空泵的真空镀膜机，其特征在于，还包括：辅助减压装置，用于在真空泵工作前，对真空室内的空气进行抽吸，与真空室达到气压平衡状态；和控制部，用于对真空镀膜机和辅助减压装置进行控制，其中，辅助减压装置含有：辅助减压舱，为密闭腔体，体积与真空室的体积相对应；连接管，一端与真空室相连通，另一端与辅助减压舱相连通；以及阀门，安装在连接管上，控制部，用于控制真空镀膜机工作，和阀门的开启、关闭，并基于辅助减压舱的体积与真空室的体积的对应关系控制真空泵对真空室进行抽吸至真空状态。

本发明还提供一种使用上述真空镀膜系统来对多批基片进行镀膜的镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：让操作员将一批基片放入真空室内；采用控制部控制真空室的室门关闭；采用控制部控制阀门开启，使真空室与辅助减压舱达到第一气压平衡状态；采用控制部控制阀门关闭；采用控制部控制真空泵对达到第一气压平衡状态的真空室内的空气进行抽吸至真空状态；采用控制部控制镀膜部对一批基片进行镀膜；在镀膜完成后，采用控制部控制阀门开启，使真空室与辅助减压舱达到第二气压平衡状态，减小辅助减压舱内的气压；采用控制部控制真空室的室门开启，并让操作员取出镀好膜的一批基片；重复上述步骤，对其它批次的基片进行镀膜。

发明的作用与效果

根据本发明涉及的真空镀膜系统和镀膜方法，因为真空镀膜系统不仅具有真空镀膜机，还具有辅助减压装置和控制部，所以控制部能够控制辅助减压装置在真空镀膜机中的真空泵工作前利用压差对真空室内的空气进行抽吸，从而能够减小真空室内的气压，起到辅助减压的作用，因此能够达到减小真空泵的能耗的目的，并且可以减小整个真空镀膜系统的能耗。

附图说明

图 1 是本发明涉及的真空镀膜系统在实施例中的结构框图；和

图 2 是本发明涉及的真空室和辅助减压装置在实施例中的配合图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明所涉及的真空镀膜系统的优选实施例做详细阐述。

实施例

图 1 是本发明涉及的真空镀膜系统在实施例中的结构框图。

如图 1 所示，真空镀膜系统10包括真空镀膜机11、辅助减压装置12以及控制部13。

真空镀膜机11具有镀膜部11a、真空室11b以及真空泵11c。镀膜部11a用于对基片进行镀膜，真空室11b为基片提供真空环境，真空泵11c用于对真空室11b内的空气进行抽吸使真空室11b至真空状态。

图 2 是本发明涉及的真空室和辅助减压装置在实施例中的配合图。

如图 1、2 所示，辅助减压装置12用于在真空泵11c工作前，对真空室11b内的空气进行抽吸，与真空室11b达到气压平衡状态。该辅助减压装置12含有：辅助减压舱12a、连接管12b以及阀门12c。辅助减压舱12a为密闭腔体，体积与真空室11b的体积相对应，在本实施例中，该辅助减压舱12a的体积与真空室11b的体积相等。连接管12b的一端与真空室11b相连通，另一端与辅助减压舱12a相连通。阀门12c安装在连接管12b上。

控制部13用于对真空镀膜机11和辅助减压装置12进行控制。在本实施例中，控制部13用于控制真空镀膜机11工作，和阀门12c的开启、关闭，并基于辅助减压舱12a的体积与真空室11b的体积相等这一对应关系控制真空泵11c对真空室11b进行抽吸至真空状态。