[发明专利]传输装置、传输方法、传输系统及等离子体加工设备

说明书

技术领域

本发明属于微电子加工技术领域，具体涉及一种传输装置、传输方法、传输系统及等离子体加工设备。

背景技术

等离子增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，以下简称PECVD）设备是一种应用非常广泛的加工设备，其主要用于太阳能电池等微电子产品的膜层制备工艺中。目前，为了提高单次工艺所能处理的工件数量，以提高生产效率，通常借助传输系统一次性地将多个工件传输至反应腔室中。

如图1所示，为现有的传输系统的结构示意图。传输系统包括石墨载板10、上料台11、下料台12和传输装置（图中未画出）。其中，上料台11和下料台12并排设置在石墨载板10的一侧，用以分别承载待加工工件和已加工工件；装载装置设置在位于石墨载板10、上料台11和下料台12上方的相应位置处，用以自上料台11将待加工工件传送至石墨载板10的装件位，以及自石墨载板10的装件位将已加工工件传送至下料台12。具体地，图2为现有的传输装置的结构示意图。图3为图2中传输装置的双吸盘的仰视图，如图2所示，该传输装置包括驱动及控制器100、四个并联的传动臂101和双吸盘102，其中，如图3所示，双吸盘102可以将两个工件同时吸附在位置a和位置b处；传动臂101分别与驱动及控制器100和双吸盘102连接，在驱动及控制器100的驱动下，传动臂101带动双吸盘102自上料台11将两个待加工工件传送至石墨载板10的相应装件位上，以及自石墨载板10的装件位将两个已加工工件传送至下料台12。

而且，如图1所示，在石墨载板10与上料台11之间以及石墨载板10与下料台12之间分别设置有摄像头13，摄像头13用于在双吸盘102经过时，对吸附在双吸盘102上的两个工件分别进行拍照，并将采集到的图像信息发送至驱动及控制器100；驱动及控制器100基于该图像信息进行解析和计算而获得吸附在双吸盘102上的工件与石墨载板10的相应装件位之间的角度偏差，并根据该角度偏差驱动双吸盘102旋转，以校准吸附在双吸盘102上的两个工件的角度，从而保证双吸盘102能够准确地将两个工件放置在石墨载板10的相应装件位或下料台12上。

此外，由于上述双吸盘102可以一次性地传送两个工件，这就需要上料台11和下料台12分别同时承载两个工件，而为了节省上料台11和下料台12在图1所示的水平方向上排列所占的空间，以尽可能地缩小传输装置的运动范围，从而提高传输装置的传送效率，将分别置于上料台11和下料台12上的两个工件沿图1所示的竖直方向排列；而且，为了减少传输装置传送工件的总次数，在传输装置单次传送两个工件的过程中，使传输装置将两个工件沿图1所示的水平方向放置在石墨载板10的相应装件位上，或自石墨载板10的相应装件位取出沿图1所示的水平方向排列的两个工件。由此可知，单次传送的两个工件分别排列在上料台11和下料台12上的方向与排列在石墨载板10上的方向相互垂直，这就使得传输装置在单次传送两个工件的过程中，需要伴随90°的转动。

下面对传输装置传输工件的过程进行详细地描述，具体地，如图1所示，传输装置在自上料台11（位置1）取出沿图1所示的竖直方向排列的两个工件，并将其传送至相应的摄像头13上方（位置2），且在自位置1移动至位置2的过程中使两个工件伴随有90°的旋转，以使位于位置2的两个工件的排列方向被转换为沿图1所示的水平方向排列；待摄像头13完成图像采集之后，传输装置将两个工件自位置2平移至石墨载板10的相应的装片位（位置3），从而完成工件的装载。传输装置在自石墨载板10的装片位（位置4）取出沿图1所示的水平方向排列的两个工件，并将其传送至下料台12（位置5），且在自位置4移动至位置5的过程中使两个工件伴随有90°的旋转，以使位于位置5的两个工件的排列方向被转换为沿图1所示的竖直方向排列，从而完成工件的卸载。