[发明专利]描绘设备、描绘方法和制造物品的方法无效

专利信息
申请号: 201310113921.4 申请日: 2013-04-03
公开(公告)号: CN103365116A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 村木真人;森田知之 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 罗银燕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 描绘 设备 方法 制造 物品
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种描绘(drawing)设备,该描绘设备基于构成描绘数据的描绘条带(stripe)数据执行与基板上形成的压射区(shot)重叠的描绘。

背景技术

电子射束描绘设备通过在基板上的压射区上的叠加来执行描绘,以使得基板上的多个压射区(样本压射区)的坐标被测量。可使用针对每一个压射区形成的对准标记来执行测量。此外,基于设计压射区的坐标和实际压射区的坐标具有预定的几何转换关系的假设,可通过测量来确定变换的参数(系数)。另外,可基于设计压射区的坐标和参数来获得实际压射区的坐标。此外,例如,如果在每一个压射区处对多个标记中的每一个测量坐标(x,y),则不仅可获得每个压射区的位置(例如,每个压射区的中心的坐标),而且还可获得每个压射区的变形(膨胀和收缩或者旋转)。

此外,基于配置描绘数据的描绘条带数据在基板上执行描绘的电子射束描绘设备是已知的(参见Proc.of SPIE Vol.797079701A-1(2011))。

压射区的变形可在形成压射区的曝光处理或者其他处理(包括加热处理)期间发生。

图10A是示出当膨胀和收缩变形施加于压射区时的晶圆(基板)上的9(3×3)个压射区的视图。实线指示实际压射区,虚线指示设计压射区(在这种情况下,“实际”压射区的中心与“设计”压射区的中心匹配)。

图10B示出当用Proc.of SPIE Vol.797079701A-1(2011)中讨论的描绘设备描绘可膨胀且可收缩的压射区时的方面。图10B示出电子射束的初始位置B1至B8。在电子射束左右扫描晶圆以在晶圆上描绘具有条带形状的描绘区域(条带描绘区域)的同时,晶圆向上移动。条带描绘区域S1至S8由电子射束描绘。

通过根据用于描绘对应条带描绘区域的描绘数据的控制数据对每个射束执行射束消隐(beam blanking)。可通过以条带为单位分割压射区的描绘数据(描绘条带数据)来产生每个射束的控制数据。这里,如果压射区具有膨胀和收缩变形,则即使通过控制数据描绘图10B的虚线所表示的压射区(设计压射区),在叠加中也可能出现误差。

图10C是示出当压射区具有旋转变形时的晶圆上的9(3×3)个压射区的视图。在压射区具有旋转变形的情况下,在叠加中出现误差,图10D中示出了该误差。实线和虚线的使用与图10A和图10B中的使用相同。

为了减小这样的误差,考虑以下方法,该方法基于被测压射区的变形来使描绘数据变形,然后以条带为单位对描绘数据进行分割以产生用于每一个射束的控制数据。然而,因为这种方法需要大量的处理时间,所以这种方法并不合适。

发明内容

本发明针对一种就重叠精度和生产能力这二者而言对于产生描绘条带数据有利的描绘设备。

根据本发明的一方面,一种描绘设备被配置为基于构成描绘数据的多个描绘条带数据通过多个带电粒子射束执行与基板上形成的压射区重叠的描绘。所述设备包括:带电粒子光学系统,所述带电粒子光学系统被配置为产生所述多个带电粒子射束;以及控制器,所述控制器被配置为产生作为多个中间条带的数据的多个中间条带数据,获得与压射区的变形有关的信息,并且基于与变形有关的所述信息变换所述多个中间条带数据以产生所述多个描绘条带数据,所述多个中间条带中的相邻中间条带彼此重叠。

从以下参照附图对示例性实施例的详细描述,本发明的进一步的特征和方面将变得清晰。

附图说明

合并在本说明书中并构成本说明书的一部分的附图示出了本发明的示例性实施例、特征和方面,并且与描述一起用于解释本发明的原理。

图1是示出描绘设备的配置的视图。

图2是示出消隐器(blanker)阵列的配置的视图。

图3是描述光栅扫描描绘方法的视图。

图4是描述电子射束子阵列在基板上的布置和扫描的视图。

图5是示出电子射束在基板上的扫描轨迹的视图。

图6是描述多个条带描绘区域SA之间的位置关系的视图。

图7是描述根据示例性实施例的数据流程的视图。

图8A、图8B和图8C是描述描绘条带数据和中间条带数据的视图。

图9是描述根据第三示例性实施例的中间条带数据的视图。

图10A、图10B、图10C和图10D是描述本发明要解决的问题的视图。

具体实施方式

以下将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例、特征和方面。

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