[发明专利]用于制造照射装置的方法和照射装置在审
申请号: | 201310116342.5 | 申请日: | 2013-04-03 |
公开(公告)号: | CN103368064A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 安德烈亚斯·布雷德纳塞尔;扬·奥利弗·德鲁默 | 申请(专利权)人: | 欧司朗有限公司 |
主分类号: | H01S5/022 | 分类号: | H01S5/022;H01S5/40 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;李慧 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 照射 装置 方法 | ||
1.一种用于制造照射装置的方法,其中
-提供第一基板(10),
-在所述第一基板(10)上布置用于产生第一电磁射线(13)的第一射线源(12),
-在所述第一基板(10)上在所述第一电磁射线(13)的射线路径中这样布置用于使得所述第一电磁射线(13)转向的第一转向元件(16),即,所述第一电磁射线(13)在远离所述第一基板(10)的方向上转向,
-提供第二基板(50),
-在所述第二基板(50)中,在预设的额定位置上设计有第一耦合输出区域,
-测定所述第一耦合输出区域的实际位置,
-检测经过转向的第一电磁射线(17),由此能测定经过转向的所述第一电磁射线(17)的射线路径,
-所述第一射线源(12)和所述第一转向元件(16)取决于所述第一耦合输出区域的测定的所述实际位置相对彼此和相对于所述第一基板(10)这样在所述第一基板(10)上调整,即在所述第二基板(50)布置在所述第一基板(10)上的情况下,经过转向的所述第一电磁射线(17)的所述射线路径延伸穿过所述第一耦合输出区域,
-将所述第二基板(50)布置在所述第一基板(10)上。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一射线源(12)和/或所述第一转向元件(16)在所述第一基板(10)上调整,这由此实现,即所述第一射线源和/或所述第一转向元件在所述第一基板(10)上平行于所述第一基板(10)的表面移动。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述第一耦合输出区域具有第一耦合输出点,和其中,所述第一射线源(12)和所述第一转向元件(16)这样在所述第一基板(10)上调整,即在所述第二基板(50)布置在所述第一基板(10)上的情况下,经过转向的所述第一电磁射线(17)的所述射线路径延伸穿过所述耦合输出点。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述第一耦合输出区域设计在所述第二基板(50)中,这由此实现,即在所述第二基板(50)中设计有用于输出经过转向的所述第一电磁射线(17)的耦合输出镜头(54),其中,所述耦合输出镜头(54)形成所述第一耦合输出区域并且具有所述第一耦合输出点。
5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述第一耦合输出区域设计在所述第二基板(50)中,这由此实现,即在所述第二基板(50)中设计有用于输出经过转向的所述第一电磁射线(17)的缺口(60),其中,所述缺口(60)形成所述第一耦合输出区域并且包括所述第一耦合输出点,和其中,耦合输出镜头(54)覆盖在所述缺口(60)上方地布置在所述第二基板(50)上并且取决于所述第一耦合输出点在所述第二基板(50)上调整。
6.根据权利要求1或2中任一项所述的方法,其中,所述第一耦合输出区域设计在所述第二基板(50)中,这由此实现,即在所述第二基板(50)中设计有用于输出经过转向的所述第一电磁射线(17)的缺口(60),和其中,用于输出经过转向的所述第一电磁射线(17)的耦合输出镜头(54)布置在所述第二基板(50)上并且取决于经过转向的所述第一电磁射线(17)的所述射线路径在所述第二基板(50)上调整。
7.根据权利要求1或2所述的方法,其中,在所述第一基板(10)和所述第二基板(50)之间布置间距保持件(52),所述间距保持件设定所述第一基板(10)和所述第二基板(50)之间的间距。
8.根据权利要求6所述的方法,其中,在所述第一基板(10)和所述第二基板(50)之间布置间距保持件(52),所述间距保持件设定所述第一基板(10)和所述第二基板(50)之间的间距。
9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述间距保持件(52)设计为与所述第二基板(50)成一个整体。
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