[发明专利]光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学元件、含有光学元件的摄像装置和电子设备、以及光学元件的制造方法。 

背景技术

数码相机等中使用有摄像装置。该摄像装置结构如下：在容器的底部设置有CCD等摄像元件，在容器上安装有与该摄像元件相向配置的盖，光学低通滤波器与盖一起与摄像元件相向配置。 

有的盖或光学低通滤波器等光学元件在由无机系材料构成的透光性基板上形成有防反射膜。 

作为防反射膜，具有由无机材料构成的现有例，所述现有例是将以钛和镧的混合氧化膜为主要成分的层和以硅氧化膜为主要成分的层层积在水晶基材上形成的(专利文献1)。专利文献1中，通过真空蒸镀法将无机系材料的防反射膜成膜在水晶基材上。 

进一步，作为现有例，已知有：在由玻璃或塑料构成的基材的表面上具有由二氧化硅颗粒和有机聚硅氧烷的反应物构成的材料和分散有该材料且使固化性有机硅树脂固化的薄膜这样的防反射膜(专利文献2)；或在树脂制的基材薄膜的一面设置高折射率层，在该高折射率层上设置含有中空二氧化硅的低折射率层这样的防反射薄膜(专利文献3)；或在透明塑料基材的单面上依次层积硬涂膜、含有中空二氧化硅的低折射率层以及防污层，对硬涂膜的表面进行碱处理的防反射薄膜(专利文献4)；或进一步，在由双向延伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯构成的基材薄膜上设置硬涂膜，在该硬涂膜上具有设置了低折射率层这样的防反射膜，所述低折射率层含有利用乙硅烷化合物、硅烷偶联剂处理的中空二氧化硅颗粒(专利文献5)。 

现有技术文献 

专利文献 

专利文献1：日本特开2008-32874号公报 

专利文献2：日本特开2011-88787号公报 

专利文献3：日本特开2011-237802号公报 

专利文献4：日本特开2002-277604号公报 

专利文献5：日本特开2009-157233号公报 

发明内容

发明所要解决的课题 

专利文献1中，为了进行防反射膜的成膜使用了真空蒸镀法，因此需要进行将作为蒸镀对象的基材安装到夹具上、将夹具安装到拱顶上、将拱顶搬入到蒸镀装置内、对蒸镀装置内抽真空、蒸镀无机系防反射膜这一系列的操作。专利文献1中需要这样的一系列复杂繁琐的工序，因此操作上的管理项目增多，成膜很花费功夫，其结果是产生制造成本增加这样的问题。除此之外，还存在下述问题：从将基材安装到夹具上到蒸镀装置内的抽真空为止的操作时产生的颗粒、异物、灰尘等引起所成膜的防反射膜具有缺陷这样的不良情况。进一步存在如下问题：使用由钛和镧混合而成的混合氧化膜作为防反射膜等的材料的情况下，在所述混合氧化膜中有时含有放射性元素铀(U)、钍(Th)等杂质，由于从这些元素放出的放射线(α射线)会导致在摄像元件的受光部产生缺陷等不良情况。进一步存在下述问题：成膜后会产生在构成防反射膜的例如配置在最表层的硅氧化膜上附着有异物或灰尘这样的不良情况，无法维持高品质。 

专利文献2的目的是提高分光特性，而非是解决在专利文献1中产生的所述不良情况的发明。而且，专利文献2是将防反射膜直接设置在基材上这样的构成，并没有以存在硬涂膜为前提。 

专利文献3中，防反射膜是将低折射率层设置在树脂制的薄膜基材上这样的构成，而非在无机系材料的透光性基板上进行成膜得到的防反射膜。 

与专利文献3同样，专利文献4中，防反射膜是将低折射层设置在透明塑料基板上这样的构成，而非在无机系材料的透光性基板上进行成膜得到的防反射膜。 

与专利文献4同样，专利文献5中，防反射膜是将低折射率层设置在由双向延伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯构成的基材薄膜上这样的构成，而非在无机系材料的透光性基板上进行成膜得到的防反射膜。 

本发明的目的在于提供光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法， 其能够容易地在无机系材料的硬涂层上进行高品质的防反射层的成膜。 

用于解决课题的方法 

本发明是为了至少解决上述课题的一部分而完成的，能够作为以下的方式或应用例来实现。 

[应用例1] 

本应用例的光学元件的特征在于，其具备：无机系的透光性基材；在所述透光性基材的主面上设置的比所述透光性基材硬的无机系硬涂层；含有有机硅化合物、含环氧基有机化合物以及中空二氧化硅的在所述硬涂层的主面上设置的有机系防反射层，其中，所述硬涂层与所述有机硅化合物和所述含环氧基有机化合物的至少任意一种形成共价键结合。