[发明专利]真空蒸镀装置

权利要求书

1.一种真空蒸镀装置，其使蒸镀材料在基板成膜，该真空蒸镀装置的特征在于：

具有将多个线状蒸发源以相对于成膜方向对称的方式配置而成的蒸发源组，

所述蒸发源组相对于所述基板向第一方向移动并对所述基板成膜后，相对于所述基板向作为所述第一方向的反方向的第二方向移动并对所述基板成膜。

2.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组由蒸镀第一材料的第一蒸发源、蒸镀与所述第一材料不同的第二材料的第二蒸发源、蒸镀所述第一材料的第三蒸发源构成，

所述第二蒸发源设置在所述第一蒸发源和所述第三蒸发源之间。

3.如权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组是将第一蒸发源、第二蒸发源、第三蒸发源沿上下方向排列而构成的，

所述第一方向为上方向或下方向。

4.如权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组在向所述第一方向移动后、向所述第二方向移动前，向左右方向移动。

5.如权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组是将第一蒸发源、第二蒸发源、第三蒸发源沿左右方向排列而构成的，

所述第一方向为左方向或右方向。

6.如权利要求5所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组在向所述第一方向移动后、向所述第二方向移动前，向上下方向移动。

7.如权利要求4或6所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组反复进行向所述第一方向、第三方向、所述第二方向的移动，对所述基板进行成膜。

8.一种真空蒸镀装置，其使蒸镀材料在多个基板成膜，该真空蒸镀装置的特征在于：

具有将多个线状蒸发源以相对于上下方向对称的方式配置而成的蒸发源组，

第一基板的设置位置和第二基板的设置位置沿左右方向排列，

所述蒸发源组相对于所述第一基板向第一方向移动并对所述第一基板成膜后，相对于所述第二基板向作为所述第一方向的反方向的第二方向移动并对所述第二基板成膜，

所述第一方向为上方向或下方向。

9.如权利要求8所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组由蒸镀第一材料的第一蒸发源、蒸镀与所述第一材料不同的第二材料的第二蒸发源、蒸镀所述第一材料的第三蒸发源构成，

所述第二蒸发源设置于所述第一蒸发源和所述第三蒸发源之间。

10.如权利要求8或9所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

在对所述第一基板进行成膜的过程中，进行所述第二基板和保持所述第二基板的基板保持器的对准。

11.如权利要求8～10中任一项所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组在向所述第一方向移动后、向所述第二方向移动前，向左右方向移动。

12.如权利要求1～11中任一项所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸发源组在喷射所述第一材料或所述第二材料的开口部具有能够开关的闸门，

所述蒸发源组，

在向所述第一方向移动的情况下，打开所述第一蒸发源的闸门和所述第二蒸发源的闸门，关闭所述第三蒸发源的闸门，

在向所述第二方向移动的情况下，关闭所述第一蒸发源的闸门，打开所述第二蒸发源的闸门和所述第三蒸发源的闸门。

13.如权利要求1～12中任一项所述的真空蒸镀装置，其特征在于：

所述第一材料为膜主体材料，所述第二材料为添加材料。