[发明专利]一种荧光灯管清洗工艺

权利要求书

1.一种荧光灯管清洗工艺，采用荧光灯管清洗系统，荧光灯管清洗系统包括明管清洗系统、上粉系统、破碎粉管清洗系统、缺陷粉管清洗系统、第二循环池、水处理系统、工业总水池；明管清洗系统与上粉系统连接，明管清洗系统、水处理系统、工业总水池、明管清洗系统顺次连接构成回路，上粉系统分别与破碎粉管清洗系统、缺陷粉管清洗系统连接，第二循环池分别与破碎粉管清洗系统、缺陷粉管清洗系统连接，第二循环池、水处理系统、工业总水池、第二循环池顺次连接构成回路；其特征在于，荧光灯管清洗工艺的步骤如下：

1）将未经处理的荧光灯明管送入明管清洗系统进行明管清洗工艺处理，成为待上粉的光管；

2）将光管送入上粉系统进行上粉操作，得到合格粉管，以及少量的缺陷粉管和破碎粉管；

3）将破碎粉管送入破碎粉管清洗系统进行破碎粉管清洗工艺处理，处理后获得玻璃渣和荧光粉，荧光粉返回上粉系统进行重复利用；

4）将缺陷粉管送入缺陷粉管清洗系统进行缺陷粉管清洗工艺处理，处理后获得明管和荧光粉，明管返回明管清洗系统进行重复利用，荧光粉返回上粉系统进行重复利用。

2.如权利要求1所述的一种荧光灯管清洗工艺，所述的明管清洗工艺，采用明管清洗系统，明管清洗系统包括HF水溶液浸泡池、清水浸泡池、清水冲洗池、清水漂洗池、烘干室、洗管储水池、第一循环池；HF水溶液浸泡池、清水浸泡池、清水冲洗池、清水漂洗池、烘干室顺次连接，洗管储水池分别与HF水溶液浸泡池、清水浸泡池、清水冲洗池、清水漂洗池连接，第一循环池分别与HF水溶液浸泡池、清水浸泡池、清水冲洗池、清水漂洗池连接；其特征在于，明管清洗工艺的步骤如下：

1）将未经处理的明管送入HF水溶液浸泡池，浸泡池内水溶液的HF浓度为2.5%～4%，溶液液位要高于放入明管的总高度，浸泡时间不低于5分钟，不超过10分钟；

2）将浸泡好的明管转移至清水浸泡池内，清水浸泡池液位不低于放入明管总高度的1.2倍，浸泡时间不低于15分钟；

3）将完成清水浸泡的明管转移至清水清洗池内，在池内使用水枪对明管内外壁进行清洗，水枪出水口压力不低于0.1Mpa，不高于0.17Mpa，单管冲洗时间不低于20秒；

4）将完成冲洗的明管转移至清水漂洗池内，清水漂洗池内清水呈流动状态，液位不低于放入明管总高度的1.4倍，漂洗时间不低于4分钟；

5）将完成漂洗的明管转移至烘干室进行烘干，得到光管成品。

3.如权利要求1所述的一种荧光灯管清洗工艺，所述的破碎粉管清洗工艺，采用破碎粉管清洗系统，破碎粉管清洗系统包括顺次连接的破碎池、第一超声波清洗池、第一过滤器、第一沉淀池、第二过滤器；其特征在于，破碎粉管清洗工艺的步骤如下：

1）将生产过程中产生的破碎粉管送入破碎池，进行碾压破碎，碾压次数不少于5次；

2）将碾压后的粉管碎片转移至第一超声波清洗池内，第一超声波清洗池内液面要高于粉管碎片至少10厘米；

3）在第一超声波清洗池内对粉管碎片进行不少于10分钟的清洗，获得水、荧光粉和玻璃碎片的混合物；

4）将超声波清洗池内所有物质经过第一过滤器，其中水和荧光粉通过第一过滤器，玻璃碎片被第一过滤器阻隔；

5）水和荧光粉的混合物通过第一过滤器后流入第一沉淀池，进行不低于1小时的沉淀；

6）将沉淀池上部水和少量荧光粉的混合物经过第二过滤器，其中水通过第二过滤器，荧光粉被第二过滤器阻隔，荧光粉经过干燥后返回上粉系统进行重复利用；

7）沉淀池底部的荧光粉经过干燥后，返回上粉系统进行重复利用。

4.如权利要求1所述的一种荧光灯管清洗工艺，所述的缺陷粉管清洗工艺，采用缺陷粉管清洗系统，破碎粉管清洗系统包括顺次连接的第二超声波清洗池、洗粉池、第二沉淀池、第三过滤器；其特征在于，缺陷粉管清洗工艺的步骤如下：

1）将生产过程中产生的缺陷粉管送入第二超声波清洗池，第二超声波清洗池的水位不低于待清洗粉管直径的2倍、不超过待清洗粉管直径的4倍，缺陷粉管的放置要彼此平行，且互相之间不可有接触；

2）在第二超声波清洗池内对缺陷粉管进行不低于15分钟的超声波清洗，使荧光粉与管壁之间的附着力减弱，并使一部分荧光粉从管壁脱离混入水中；

3）将超声波清洗后的粉管转移到洗粉池，洗粉池水位不低于待清洗粉管长度的1/2，人工对粉管进行洗粉作业，使荧光粉从管壁完全脱离并混合于洗粉池的水中；

4）回收完成洗粉作业后的荧光灯管，重新获得明管并将其返回明管清洗系统进行重复清洗利用；

5）将第一超声波清洗池和洗粉池中混有荧光粉的水输送至沉淀池，进行不低于1小时的沉淀；

6）将第一沉淀池上部水和少量荧光粉的混合物经过第三过滤器，其中水通过第三过滤器，荧光粉被第三过滤器阻隔，荧光粉经过干燥后返回上粉系统进行重复利用；

7）第一沉淀池底部的荧光粉经过干燥后，返回上粉系统进行重复利用。