[发明专利]克拉霉素杂质O及其相类似化合物的制备工艺

权利要求书

1.克拉霉素杂质O（Ⅰ），其特征是它在EP5.1标准的液相检测下，相应出峰位置在RRT=1.41，该化合物的结构式为：

2.克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于：以克拉霉素中间体或者B、C、D、E、F组分的肟化产物（Ⅱ）为原料，溶解于低级醇、低级酮或卤代烃。以碘甲烷或者溴甲烷、硫酸二甲酯作为甲化剂，在缚酸剂的作用下，于0～80℃之间进行1～24小时的甲基化反应，反应结束，过滤，减压浓缩母液，残留物在低级醇与水的混合体系或低级酮与水的混合体系下进行精制，具体反应式如下：

3.根据权利要求2所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于通式中R₁=R₂=CH₃或者H，R₃=CH₃、H、CHO或者SO₂C₆H₄CH₃。

4.根据权利要求2所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述的反应溶剂低级醇指C₁～C₄的醇。

5.根据权利要求4所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述C₁～C₄的醇是甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇或其异构体形式。

6.根据权利要求2所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述的反应溶剂低级酮指C₃～C₆的酮。

7.据权利要求6所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述C₃～C₆的酮是丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮或相似化合物。

8.根据权利要求2所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述的反应溶剂卤代烃指C₁～C₄的卤代烃。

9.据权利要求8所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述C₁～C₄的卤代烃是二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、1，2-二氯乙烷或相似化合物。

10.根据权利要求2所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述的甲化试剂为碘甲烷、溴甲烷或硫酸二甲酯。

11.根据权利要求2所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述的缚酸剂为氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠或碳酸氢钾。

12.根据权利要求2所述的克拉霉素杂质O（Ⅰ）或者相类似化合物（Ⅲ）的制备工艺，其特征在于所述的甲基化反应温度为20～30℃，反应时间为6～12小时。