[发明专利]一种三维移动阴极磁控溅射靶无效
| 申请号： | 201310125541.2 | 申请日： | 2013-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN104099574A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 韩裕鲲 | 申请（专利权）人： | 昆山艾诺美航天材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 三维 移动 阴极 磁控溅射 | ||
【权利要求书】：
1.三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：包括支撑平台、纵向导轨、垂直导轨、垂直移动平台、靶材支架，所述支撑平台左右两端各有两个轮子可以沿水平导轨滚动，承载着垂直移动平台和靶材支架，所述支撑平台右端通过螺纹孔与一根水平的螺杆相连，水平螺杆控制所述支撑平台的水平移动，中间部位固定所述垂直导轨及其电动控制装置。
2.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：水平导轨由两条导轨和一条螺杆组成，螺杆传动可以精确控制支撑平台的水平位移。
3.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：垂直导轨由四根螺杆组成，螺杆传动精确控制垂直移动平台的垂直位移。螺杆底部四个链轮由主动轮带动，保证其运动一致性。
4.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：垂直移动平台承载靶材支架作垂直运动，平台四个角有螺纹孔与螺杆相连以达到运动的目的。
5.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：靶材的运动均由预先编写的电脑程式控制，使其轨迹与基材外部曲面对应。
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